[發明專利]被構圖基底,制造基底的方法,磁記錄介質及磁記錄裝置無效
| 申請號： | 200610107756.1 | 申請日： | 2006-07-25 |
| 公開（公告）號： | CN1905015A | 公開（公告）日： | 2007-01-31 |
| 發明（設計）人： | 櫻井正敏;喜喜津哲;岡正裕 | 申請（專利權）人： | 株式會社東芝;昭和電工株式會社 |
| 主分類號： | G11B5/82 | 分類號： | G11B5/82;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市中咨律師事務所 | 代理人： | 楊曉光;李崢 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 構圖 基底 制造 方法 記錄 介質 裝置 | ||
【說明書】：
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社東芝;昭和電工株式會社，未經株式會社東芝;昭和電工株式會社許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200610107756.1/2.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：草酸體系萃取法制取無氟氧化鈮工藝
- 下一篇：顯示壁紙的方法和顯示壁紙的裝置
