[發(fā)明專利]光刻膠去除劑組合物以及用該組合物形成布線結構和制造薄膜晶體管基片的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610103511.1 | 申請日： | 2006-07-19 |
| 公開（公告）號： | CN1904742A | 公開（公告）日： | 2007-01-31 |
| 發(fā)明（設計）人： | 樸弘植;金時烈;鄭鐘鉉;申原碩 | 申請（專利權）人： | 三星電子株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/42 | 分類號： | G03F7/42;G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京康信知識產權代理有限責任公司 | 代理人： | 李偉 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 去除 組合 以及 形成 布線 結構 制造 薄膜晶體管 方法 | ||
【權利要求書】：
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