[發明專利]光刻裝置、污染物收集器和器件制造方法無效
| 申請號： | 200610103121.4 | 申請日： | 2006-07-05 |
| 公開（公告）號： | CN1892441A | 公開（公告）日： | 2007-01-10 |
| 發明（設計）人： | L·A·斯杰梅諾克;V·Y·巴尼內;J·J·史米特斯;L·A·范登維爾登波格;A·A·施米特;A·C·瓦辛克;P·P·A·A·布羅姆;E·L·W·弗帕蘭;A·J·范德帕斯 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷蘭費*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 裝置 污染物 收集 器件 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于ASML荷蘭有限公司，未經ASML荷蘭有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200610103121.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：用于綜框的端部結合件
- 下一篇：視頻編碼、解碼方法和裝置
