[發明專利]化學研磨裝置及其玻璃基板無效
| 申請號： | 200610101543.8 | 申請日： | 2006-07-10 |
| 公開（公告）號： | CN1974123A | 公開（公告）日： | 2007-06-06 |
| 發明（設計）人： | 西山智弘 | 申請（專利權）人： | 西山不銹化學股份有限公司 |
| 主分類號： | B24B1/00 | 分類號： | B24B1/00;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 何騰云 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 化學 研磨 裝置 及其 玻璃 | ||
【權利要求書】：
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