[發明專利]微致動器安裝結構及其制造方法

無效

• 申請號: 200610100344.5
• 申請日: 2006-06-30
• 公開（公告）號: CN101097726A
• 公開（公告）日: 2008-01-02
• 發明（設計）人: 姚明高;謝怡如
• 申請（專利權）人: 新科實業有限公司
• 主分類號: G11B5/596
• 分類號: G11B5/596;G11B21/10
• 代理公司: 廣州三環專利代理有限公司
• 代理人: 郝傳鑫

1.一種用于磁頭折片組合的微致動器，包括：金屬框架，所述金屬框架包括：

頂支撐板，其具有一個用于支持磁頭的頂面；

底支撐板，其具有適于安裝到懸臂件上的底面；以及

分別與頂支撐板和底支撐板相互連接的一對側臂，所述每個側臂包括一個適于安裝壓電元件的外表面；其特征在于：

所述頂面、底面和/或所述外表面上包括一個局部蝕刻槽口。

2.根據權利要求1所述的微致動器，其特征在于：所述局部蝕刻槽口分布在每個側壁的外表面上。

3.根據權利要求1所述的微致動器，其特征在于：所述局部蝕刻槽口分布在所述底支撐板的底面上。

4.根據權利要求1所述的微致動器，其特征在于：所述局部蝕刻槽口分布在所述頂支撐板的頂面上。

5.根據權利要求1所述的微致動器，其特征在于：所述局部蝕刻槽口分布在每個側壁的外表面、底支撐板的底面以及頂支撐板的頂面上。

6.根據權利要求1所述的微致動器，其特征在于：所述局部蝕刻槽口為若干個相互間隔分布的局部蝕刻槽口。

7.根據權利要求6所述的微致動器，其特征在于：所述每個局部蝕刻槽口呈圓孔狀。

8.根據權利要求6所述的微致動器，其特征在于：所述局部蝕刻槽口的形狀為正方形或矩形。

9.根據權利要求6所述的微致動器，其特征在于：所述若干個局部蝕刻槽口分布在每個側臂的外表面、底支撐板的底面和/或頂支撐板的頂面上。

10.根據權利要求1所述的微致動器，其特征在于：所述局部蝕刻槽口的深度為1-20μm。

11.根據權利要求1所述的微致動器，其特征在于：所述局部蝕刻槽口具有增加表面粗糙度的結構，從而增強安裝強度。

12.根據權利要求1所述的微致動器，其特征在于：所述局部蝕刻槽口呈長線型。

13.根據權利要求12所述的微致動器，其特征在于：所述局部蝕刻槽口沿每個側臂的頂部邊緣分布。

14.根據權利要求12所述的微致動器，其特征在于：所述局部蝕刻槽口沿每個側臂的底部邊緣分布。

15.根據權利要求12所述的微致動器，其特征在于：所述局部蝕刻槽口沿每個側臂的頂部邊緣和底部邊緣分布。

16.一種磁頭折片組合，包括：

微致動器；

磁頭；以及

用于支撐微致動器和磁頭的懸臂件；其中，所述微致動器包括金屬框架，所述金屬框架包括：

頂支撐板，其具有一個用于支持磁頭的頂面；

底支撐板，其具有適于安裝到懸臂件上的底面；以及

分別與頂支撐板和底支撐板相互連接的一對側臂，所述每個側臂包括一個適于安裝壓電元件的外表面；

其特征在于：所述頂面、底面和/或所述外表面上包括一個局部蝕刻槽口。

17.根據權利要求16所述的磁頭折片組合，其特征在于：所述局部蝕刻槽口分布在每個側壁的外表面上。

18.根據權利要求16所述的磁頭折片組合，其特征在于：所述局部蝕刻槽口分布在所述底支撐板的底面上。

19.根據權利要求16所述的磁頭折片組合，其特征在于：所述局部蝕刻槽口分布在所述頂支撐板的頂面上。

20.根據權利要求16所述的磁頭折片組合，其特征在于：所述局部蝕刻槽口分布在每個側壁的外表面、底支撐板的底面以及頂支撐板的頂面上。

21.根據權利要求16所述的磁頭折片組合，其特征在于：所述局部蝕刻槽口為若干個相互間隔分布的局部蝕刻槽口。

22.根據權利要求21所述的磁頭折片組合，其特征在于：所述每個局部蝕刻槽口呈圓孔狀。

23.根據權利要求21所述的磁頭折片組合，其特征在于：所述局部蝕刻槽口的形狀為正方形或矩形。

24.根據權利要求21所述的磁頭折片組合，其特征在于：所述若干個局部蝕刻槽口分布在每個側臂的外表面、底支撐板的底面和/或頂支撐板的頂面上。