[發(fā)明專利]度量、光刻、加工裝置、度量方法及器件制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610100135.0 | 申請日： | 2006-06-29 |
| 公開（公告）號： | CN1892439A | 公開（公告）日： | 2007-01-10 |
| 發(fā)明（設計）人： | H·P·M·佩勒曼斯;A·J·登博夫;W·M·科爾貝杰;H·范德蘭 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 劉華聯(lián) |
| 地址： | 荷蘭費*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 度量 光刻 加工 裝置 方法 器件 制造 | ||
【權利要求書】：
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