[發明專利]光刻裝置的浸沒損壞控制有效
| 申請號： | 200610099680.2 | 申請日： | 2006-06-28 |
| 公開（公告）號： | CN1892435A | 公開（公告）日： | 2007-01-10 |
| 發明（設計）人： | F范德穆倫;HHM考克西;M侯克斯;RJ范維烈特;S尼蒂亞諾夫;PWJM坎帕;RPH哈尼格拉夫 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;譚祐祥 |
| 地址： | 荷蘭費*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 裝置 浸沒 損壞 控制 | ||
【說明書】：
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