[發明專利]光刻裝置和利用清潔氣體的移動來減少污染的器件制造方法有效
| 申請號： | 200610099674.7 | 申請日： | 2006-06-28 |
| 公開（公告）號： | CN1892434A | 公開（公告）日： | 2007-01-10 |
| 發明（設計）人： | B·A·J·魯蒂克休斯;P·R·巴特雷;W·J·博西;M·K·斯塔芬加;T·哈林克 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;黃力行 |
| 地址： | 荷蘭費*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 裝置 利用 清潔 氣體 移動 減少 污染 器件 制造 方法 | ||
【說明書】：
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