[發(fā)明專利]液晶裝置用的基板、液晶裝置和投射型顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610094494.X | 申請日: | 1997-10-16 |
| 公開(公告)號: | CN101089709A | 公開(公告)日: | 2007-12-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 村出正夫 | 申請(專利權(quán))人: | 精工愛普生株式會(huì)社 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/133;G03B21/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 魏軍 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶 裝置 投射 顯示裝置 | ||
本發(fā)明申請是申請日為1997年10月16日、申請?zhí)枮?00310122522.0的同名專利申請的一個(gè)分案申請。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種適用于液晶裝置用的基板和使用該基板的液晶裝置、投射顯示裝置的技術(shù)。更詳細(xì)地說,涉及以薄膜晶體管(以下,稱為TFT)作為象素開關(guān)元件而使用的液晶裝置用的基板中的遮光結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
迄今,作為液晶裝置,在玻璃基板上以矩陣狀形成象素電極的同時(shí),對應(yīng)于各象素電極形成使用了非晶硅膜或多晶硅膜的TFT,以利用該TFT向各象素電極施加電壓來驅(qū)動(dòng)液晶的方式構(gòu)成的液晶裝置正趨于實(shí)用化。
在所述液晶裝置中作為TFT使用了多晶硅膜的裝置,由于可用同樣的工序在同一基板上形成構(gòu)成移位寄存器等的外圍驅(qū)動(dòng)電路的晶體管,故適用于高集成化而引人注目。
對于使用了所述TFT的液晶裝置來說,用設(shè)置在對置基板上的稱為黑色矩陣(或黑色條紋)的鉻膜等遮光膜來覆蓋象素電極驅(qū)動(dòng)用的TFT(以下,稱為象素TFT)的上方,以免光直接照射到TFT的溝道區(qū)上而引起漏泄電流流動(dòng)。但是,有時(shí)因光引起的漏泄電流,不僅由于入射光、而且由于在液晶裝置用的基板的背面用偏振片等反射的光照射TFT而流動(dòng)。
因此,已提出了為了減少因反射光引起的漏泄電流而在TFT的下側(cè)也設(shè)置遮光膜的發(fā)明(特公平3-52611號)。但是,如果這樣來形成設(shè)置在TFT的下側(cè)的遮光膜,使其在對置基板上設(shè)置的黑色矩陣的開口部中露出,則存在入射光直接射到遮光膜上,被反射的光照射TFT的溝道區(qū)從而引起漏泄電流流動(dòng)的情況。這是因?yàn)椋赥FT的下方設(shè)置遮光膜的技術(shù)中,由于設(shè)置在對置基板上的黑色矩陣與在液晶裝置用的基板上形成的象素區(qū)域的高精度的位置對準(zhǔn)是困難的,故來自對置基板一側(cè)的入射光直接射到在黑色矩陣的開口部中露出的遮光膜上而反射,照射TFT的溝道部,引起漏泄電流流動(dòng)。特別是如果液晶裝置用的基板上的遮光膜與黑色矩陣的位置對準(zhǔn)的誤差較大,則由遮光膜表面引起的反射光顯著增多,因該反射光照射到溝道區(qū)上,TFT的漏泄電流增大,引起交擾(crosstalk)等的顯示惡化。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種在液晶裝置中能減少TFT的因光引起的漏泄電流的技術(shù)。本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種在對置基板上不設(shè)置黑色矩陣的情況下能減少TFT的因光引起的漏泄電流的技術(shù)。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明的第1方面所述的一種液晶裝置用的基板,在該基板上具有:多條數(shù)據(jù)線;與所述多條數(shù)據(jù)線交叉的多條掃描線;與所述多條數(shù)據(jù)線和所述多條掃描線對應(yīng)而設(shè)置的多個(gè)薄膜晶體管;以及與該多個(gè)薄膜晶體管對應(yīng)而設(shè)置的多個(gè)象素電極,其特征在于:形成所述薄膜晶體管的下方的、至少與所述薄膜晶體管的溝道區(qū)及該溝道區(qū)和源·漏區(qū)的接合部重疊的第1遮光膜,和形成在所述薄膜晶體管的上方的、至少與所述溝道區(qū)及該溝道區(qū)和源·漏區(qū)的接合部重疊的第2遮光膜;所述第2遮光膜的端部與相鄰的所述象素電極的端部部分地重疊。
在按照本發(fā)明的液晶裝置用的基板中,所述第1遮光膜的端部與所述象素電極的端部部分地重疊。
在按照本發(fā)明的液晶裝置用的基板中,所述第1遮光膜在與所述數(shù)據(jù)線交叉的方向上伸展。
在按照本發(fā)明的液晶裝置用的基板中,所述第2遮光膜是所述數(shù)據(jù)線。
在按照本發(fā)明的液晶裝置用的基板中,以所述第1遮光膜和所述第2遮光膜,與所述象素電極的所有的邊重疊。
在按照本發(fā)明的液晶裝置用的基板中,所述第1遮光膜由導(dǎo)電性的第1布線構(gòu)成,在所述象素畫面區(qū)域的外側(cè),與恒定電位線電連接。
在按照本發(fā)明的液晶裝置用的基板中,所述第1布線與掃描線驅(qū)動(dòng)電路的負(fù)電源電連接。
在按照本發(fā)明的液晶裝置用的基板中,所述薄膜晶體管的半導(dǎo)體層,對所述掃描線至少交叉兩次。
按照本發(fā)明的一種液晶裝置,其特征在于:在上述液晶裝置用的基板和具有對置電極的對置基板隔開規(guī)定的間隔而配置,并且在所述液晶裝置用的基板和所述對置基板空隙內(nèi),封入液晶。
在按照本發(fā)明的液晶裝置中,在所述對置基板上,形成第3遮光膜。
在按照本發(fā)明的液晶裝置中,所述第3遮光膜至少覆蓋所述第1遮光膜而形成。
在按照本發(fā)明的液晶裝置中,所述第3遮光膜與相鄰的所述象素電極的端部重疊。
在按照本發(fā)明的液晶裝置中,在所述對置基板上分別對應(yīng)于在所述液晶裝置用的基板上形成的所述多個(gè)象素電極,以矩陣狀形成微透鏡。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
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G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





