[發明專利]半導體器件無效
| 申請號: | 200610094492.0 | 申請日: | 1994-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN101090124A | 公開(公告)日: | 2007-12-19 |
| 發明(設計)人: | 山崎舜平;竹村保彥 | 申請(專利權)人: | 株式會社半導體能源研究所 |
| 主分類號: | H01L27/12 | 分類號: | H01L27/12;H01L29/78 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王忠忠 |
| 地址: | 日本神奈*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體器件 | ||
1.一種電光系統,包括:
顯示器,包括襯底上的驅動器電路,所述驅動器電路包含n溝道 薄膜晶體管和p溝道薄膜晶體管;
其中所述n溝道薄膜晶體管和所述p溝道薄膜晶體管中的每個包 括:
半導體層;
形成在所述半導體層中的源區和漏區,所述源區和所述漏區 之間有位于所述半導體層中的溝道區;
毗鄰所述溝道區的柵絕緣膜;
毗鄰所述溝道區包括鉬的柵極,所述柵極和所述溝道區之間 介有所述柵絕緣膜;及
一對輕度摻雜區,其中一個輕度摻雜區位于所述溝道區和所 述源區之間,而另一個輕度摻雜區位于所述溝道區和所述漏區之 間,
其中所述n溝道薄膜晶體管中的每個輕度摻雜區的寬度為 0.2至0.3微米,而所述p溝道薄膜晶體管中的每個輕度摻雜區 的寬度為0至0.2微米。
2.根據權利要求1的電光系統,其中所述襯底是玻璃襯底。
3.根據權利要求1的電光系統,其中所述n溝道薄膜晶體管的 所述輕度摻雜區含有濃度比所述n溝道薄膜晶體管的所述源區和漏區 低的磷。
4.一種電光系統,包括:
顯示器,包括襯底上的驅動器電路,所述驅動器電路包含n溝道 薄膜晶體管和p溝道薄膜晶體管;
其中所述n溝道薄膜晶體管和所述p溝道薄膜晶體管中的每個包 括:
半導體層;
形成在所述半導體層中的源區和漏區,所述源區和所述漏區 之間有位于所述半導體層中的溝道區;
毗鄰所述溝道區的柵絕緣膜;
毗鄰所述溝道區包括鎢的柵極,所述柵極和所述溝道區之間 介有所述柵絕緣膜;及
一對輕度摻雜區,其中一個輕度摻雜區位于所述溝道區和所 述源區之間,而另一個輕度摻雜區位于所述溝道區和所述漏區之 間,
其中所述n溝道薄膜晶體管中的每個輕度摻雜區的寬度為 0.2至0.3微米,而所述p溝道薄膜晶體管中的每個輕度摻雜區 的寬度為0至0.2微米。
5.根據權利要求4的電光系統,其中所述襯底是玻璃襯底。
6.根據權利要求4的電光系統,其中所述n溝道薄膜晶體管的 所述輕度摻雜區含有濃度比所述n溝道薄膜晶體管的所述源區和漏 區低的磷。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





