[發(fā)明專利]半導(dǎo)體裝置及其制造方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200610092671.0 | 申請(qǐng)日： | 2006-06-13 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN1881573A | 公開（公告）日： | 2006-12-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 森田佑一;石部真三;野間崇;大塚久夫;高尾幸弘;金森寬 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 三洋電機(jī)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | H01L23/485 | 分類號(hào)： | H01L23/485;H01L21/60;H01L21/28 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人： | 陶鳳波;侯宇 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 半導(dǎo)體 裝置 及其 制造 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分，VIP會(huì)員可以免費(fèi)下載。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于三洋電機(jī)株式會(huì)社，未經(jīng)三洋電機(jī)株式會(huì)社許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200610092671.0/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇：一種采用照明背光的相框
- 下一篇：一種降脂復(fù)方中藥及其制備方法
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法
