[發(fā)明專利]光掩模，制造光掩模的方法以及使用其的光刻方法和系統(tǒng)無效

申請?zhí)枺?/td>	200610092512.0	申請日：	2006-06-15
公開（公告）號：	CN1881086A	公開（公告）日：	2006-12-20
發(fā)明（設(shè)計）人：	許圣民;金熙范;李東根;全爘旭	申請（專利權(quán)）人：	三星電子株式會社
主分類號：	G03F7/14	分類號：	G03F7/14;G03F7/20
代理公司：	中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司	代理人：	林宇清;謝麗娜
地址：	韓國***	國省代碼：	韓國;KR
權(quán)利要求書：	查看更多	說明書：	查看更多
摘要：
搜索關(guān)鍵詞：	光掩模制造方法以及使用光刻系統(tǒng)
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