[發(fā)明專(zhuān)利]設(shè)計(jì)光罩布局與產(chǎn)生光罩圖案的方法和系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200610090053.2 | 申請(qǐng)日: | 2006-06-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN1904726A | 公開(kāi)(公告)日: | 2007-01-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周碩彥;許照榮;高蔡勝;林本堅(jiān) | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03F1/08 | 分類(lèi)號(hào): | G03F1/08;G03F7/00;H01L21/00 |
| 代理公司: | 北京中原華和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 壽寧;張華輝 |
| 地址: | 臺(tái)灣省新竹市新*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 設(shè)計(jì) 布局 生光 圖案 方法 系統(tǒng) | ||
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專(zhuān)用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專(zhuān)門(mén)適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過(guò)帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過(guò)電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過(guò)100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備
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