[發(fā)明專利]一種用于鍺晶片的拋光液及其制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200610087601.6
• 申請日: 2006-06-02
• 公開（公告）號: CN101081965A
• 公開（公告）日: 2007-12-05
• 發(fā)明（設計）人: 仲躋和
• 申請（專利權）人: 天津晶嶺電子材料科技有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;C09G1/14
• 代理公司: 國嘉律師事務所
• 代理人: 高美嶺

1.一種用于鍺晶片的拋光液，其特征在于：由磨料、表面活性劑、PH值調節(jié)劑、螯合劑和去離子水組成，各種成分所占的重量百分比為：磨料10.0％～50.0％；表面活性劑0.1％～1.0％；PH值調節(jié)劑1.0％～5.0％；螯合劑0.1％～1.0％；去離子水為余量；拋光液的PH值范圍為8～12，粒徑為15nm～100nm。

2.根據權利要求1所述的一種用于鍺晶片的拋光液，其特征在于：其磨料是指粒徑范圍為15nm～100nm的水溶硅溶膠或金屬氧化物SiO₂、Al₂O₃、CeO₂或TiO₂的水溶膠。

3.根據權利要求1所述的一種用于鍺晶片的拋光液，其特征在于：其表面活性劑系采用非離子型表面活性劑，如脂肪醇聚氧乙稀醚或烷基醇酰胺。

4.根據權利要求1所述的一種用于鍺晶片的拋光液，其特征在于：其PH調節(jié)劑是指氫氧化鈉、氫氧化鉀、多羥多胺和胺中的一種或其組合。

5.根據權利要求1所述的一種用于鍺晶片的拋光液，其特征在于：其螯合劑具有水溶性和不含金屬離子，可為EDTA、EDTA二鈉、羥胺、胺鹽和胺中的一種或其組合。

6.根據權利要求1-5所述的任何一種用于鍺晶片的拋光液的制備方法，其特征在于：首先將制備拋光液的各種組分分別進行過濾凈化處理，然后在千級凈化室的環(huán)境內，將各種組分在真空負壓的動力下，通過質量流量計輸入容器罐中并充分攪拌，混合均勻即可。