[發明專利]制備晶體薄膜的方法無效
| 申請號： | 200610086558.1 | 申請日： | 2006-06-22 |
| 公開（公告）號： | CN1885068A | 公開（公告）日： | 2006-12-27 |
| 發明（設計）人： | I·V·卡夫羅恩雅克;P·I·拉扎列夫;K·P·洛夫特斯基;M·V·波克施托 | 申請（專利權）人： | 日東電工株式會社 |
| 主分類號： | G02B5/30 | 分類號： | G02B5/30;C09K19/00 |
| 代理公司： | 北京北翔知識產權代理有限公司 | 代理人： | 唐鐵軍;鐘守期 |
| 地址： | 日本大阪*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 制備 晶體 薄膜 方法 | ||
【說明書】：
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