[發(fā)明專利]用于高爾夫球頭的噴涂式酸洗雕刻法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200610086515.3
• 申請日: 2006-06-20
• 公開（公告）號: CN101092701A
• 公開（公告）日: 2007-12-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 林忠謙;胡順富;許燕吉
• 申請（專利權(quán)）人: 大田精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號: C23G1/00
• 分類號: C23G1/00;C23G1/02;C23G1/16;A63B53/04
• 代理公司: 北京邦信陽專利商標(biāo)代理有限公司
• 代理人: 王昭林;崔華

1.一種用于高爾夫球頭的噴涂式酸洗雕刻法，包含：一前處理步驟、一裸窗形成步驟、一酸蝕步驟，以及一清洗步驟；在該前處理步驟，在一高爾夫球頭表面涂覆一遮罩層；在該裸窗形成步驟，將一光件映射在該遮罩層上，以在該遮罩層形成出一預(yù)定刻紋裸窗；在該酸蝕步驟，利用一酸洗液在該高爾夫球頭相對該預(yù)定刻紋裸窗處產(chǎn)生適當(dāng)深度的蝕刻效應(yīng)，而在該高爾夫球頭表面蝕刻出一刻紋；在該清洗步驟，將殘留在該高爾夫球頭表面的遮罩層予以洗除后，再對該高爾夫球頭表面進(jìn)行清洗；其特征在于：

在該酸蝕步驟中，該酸洗液利用噴涂方式以附著在該遮罩層上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述用于高爾夫球頭的噴涂式酸洗雕刻法，其特征在于，在該裸窗形成步驟中，將一光件映射在該遮罩層上，以在該遮罩層曝光形成該預(yù)定刻紋裸窗。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述用于高爾夫球頭的噴涂式酸洗雕刻法，其特征在于，該遮罩層是一正型光阻劑。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述用于高爾夫球頭的噴涂式酸洗雕刻法，其特征在于，該遮罩層是一負(fù)型光阻劑。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述用于高爾夫球頭的噴涂式酸洗雕刻法，其特征在于，該遮罩層是由耐蝕刻的絕緣材料所制成。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述用于高爾夫球頭的噴涂式酸洗雕刻法，其特征在于，在該裸窗形成步驟中，將該光件映射在該遮罩層上時，會在該遮罩層上形成一對應(yīng)該預(yù)定刻紋的光反應(yīng)區(qū)，再利用一顯影劑去除該光反應(yīng)區(qū)，便能成形出該預(yù)定刻紋裸窗。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述用于高爾夫球頭的噴涂式酸洗雕刻法，其特征在于，在該裸窗形成步驟中，將該光件映射在該遮罩層上時，會在該遮罩層上形成一對應(yīng)該預(yù)定刻紋的非光反應(yīng)區(qū)，再利用一顯影劑去除該非光反應(yīng)區(qū)，便能成形出該預(yù)定刻紋裸窗。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述用于高爾夫球頭的噴涂式酸洗雕刻法，其特征在于，在該裸窗形成步驟中，該光件是一雷射光束，能在該遮罩層進(jìn)行穿鑿，以成型出該預(yù)定刻紋裸窗。

9.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述用于高爾夫球頭的噴涂式酸洗雕刻法，其特征在于，在該裸窗形成步驟中，該光件是一光罩。

10.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述用于高爾夫球頭的噴涂式酸洗雕刻法，其特征在于，在該裸窗形成步驟中，該光件是一低功率雷射光束。