[發明專利]玻璃基板表面金屬層結構及其制作方法有效
| 申請號: | 200610084629.4 | 申請日: | 2006-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN101075640A | 公開(公告)日: | 2007-11-21 |
| 發明(設計)人: | 賴欽詮;邱羨坤;吳泉毅 | 申請(專利權)人: | 中華映管股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/786 | 分類號: | H01L29/786 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 | 代理人: | 謝麗娜;陳肖梅 |
| 地址: | 中國臺灣桃*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 玻璃 表面 金屬 結構 及其 制作方法 | ||
1.一種玻璃基板表面的金屬層結構,包含:
一玻璃基板,其中該玻璃基板的表面為一經改質的氮化硅接面;
及
一金屬層,形成于該氮化硅接面上,且該金屬層與該氮化硅接面接觸。
2.如權利要求1所述的玻璃基板表面的金屬層結構,其中該金屬層為擇其一的一銅層、一銀層、一銅合金層及一銀合金層。
3.如權利要求1所述的玻璃基板表面的金屬層結構,其中該氮化硅接面的厚度不小于50埃。
4.一種玻璃基板上的薄膜晶體管,包含:
一玻璃基板,其中該玻璃基板的表面為一經改質的氮化硅接面;
一柵極層,形成于該玻璃基板之表面的氮化硅接面上,且該柵極層與該氮化硅接面接觸;
一絕緣層,覆蓋該柵極層;
一半導體層,形成于該絕緣層上;
一第一與第二摻雜層,形成于該半導體層上;及
一源極與一漏極分別形成于該第一與第二摻雜層上。
5.如權利要求4所述的玻璃基板上的晶體管結構,其中該氮化硅接面的厚度不小于50埃。
6.如權利要求4所述的玻璃基板上的晶體管結構,其中該柵極層為擇其一的一銅金屬層、一銀金屬層、一銅合金層及一銀合金層。
7.如權利要求4所述的玻璃基板上的晶體管結構,其中該半導體層為一非晶硅層。
8.如權利要求4所述的玻璃基板上的晶體管結構,其中該摻雜層為一磷離子摻雜層。
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