[發明專利]均勻涂布基片的方法有效
| 申請號： | 200610082779.1 | 申請日： | 2002-02-21 |
| 公開（公告）號： | CN1900823A | 公開（公告）日： | 2007-01-24 |
| 發明（設計）人： | E·古勒;T·鐘;J·劉易冷;E·C·李;R·P·曼達爾;J·C·格拉姆博;T·C·貝特斯;D·R·紹爾;E·R·沃德 | 申請（專利權）人： | ASML控股公司 |
| 主分類號： | G03F7/16 | 分類號： | G03F7/16;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京紀凱知識產權代理有限公司 | 代理人： | 趙蓉民 |
| 地址： | 荷蘭費*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 均勻 涂布基片 方法 | ||
【說明書】：
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