[發明專利]薄膜圖案層制造方法無效
| 申請號: | 200610080406.0 | 申請日: | 2006-05-09 |
| 公開(公告)號: | CN101071187A | 公開(公告)日: | 2007-11-14 |
| 發明(設計)人: | 周景瑜;王宇寧 | 申請(專利權)人: | 虹創科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/23 | 分類號: | G02B5/23;H01L51/50;B41J2/01;B41J29/38 |
| 代理公司: | 北京申翔知識產權代理有限公司 | 代理人: | 周春發 |
| 地址: | 臺灣省新竹科學工業園*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 薄膜 圖案 制造 方法 | ||
【技術領域】
本發明涉及一種薄膜圖案層的制造方法。
【背景技術】
目前制造薄膜圖案層的方法主要包括:光微影法及噴墨法。
光微影法:通過在基板上涂敷光阻材料,將具有預定圖案的光罩設于光阻材料上,進行曝光顯影,或加上蝕刻制程,而形成具有預設圖案的薄膜圖案層。該光微影法需要抽真空裝置等大型設備或復雜的制程,并且,材料的使用效率較低而造成制造成本高。
噴墨法:噴墨方法能夠一次形成薄膜圖案層,使得制備過程大量簡化,成本大幅降低。故噴墨方法具有制程簡化、環保、節省原料等優點。在目前進行的薄膜圖案層制作中,噴墨法皆是使用噴墨裝置在已形成擋墻的玻璃基板上進行噴墨,并且一收容空間使用一個噴嘴進行噴墨,使墨水干燥形成薄膜圖案層。
然而,因為每個噴嘴的噴墨量與噴嘴有一定的聯系,故往往容易造成各收容空間的墨量差異較大,從而造成薄膜圖案層不均勻的狀況。
【發明內容】
有鑒于此,有必要提供一種能提高均勻度的薄膜圖案層的制造方法。
一種薄膜圖案層的制造方法,其步驟如下:提供一個基板;在該基板上形成多個擋墻,該擋墻與基板限定多個收容空間;通過噴墨頭將所需的墨水噴入收容空間內,并且使用至少兩個噴嘴對同一個收容空間噴墨;干燥固化收容空間中的墨水而形成薄膜圖案層。
由于每個噴嘴的噴墨量因噴嘴而有所差異,相較于現有技術,所述薄膜圖案層的制造方法,使用至少兩個噴嘴對同一個收容空間噴墨,故可以降低各收容空間的墨量差異,從而提高薄膜圖案層的均勻度。
【附圖說明】
圖1至圖14為本發明實施例提供的一種薄膜圖案層的制造方法示意圖,其中:
圖1為基板剖面示意圖。
圖2為形成有擋墻的基板剖面示意圖。
圖3至圖4為噴墨步驟的第一實施方式示意圖。
圖5至圖8為噴墨步驟的第二實施方式示意圖。
圖9至圖12為噴墨步驟的第三實施方式示意圖。
圖13為形成有薄膜圖案層的基板剖面示意圖。
圖14為形成有透明導電層的基板剖面示意圖。
【具體實施方式】
下面將結合附圖對本發明實施例作進一步的詳細說明。
請一起參閱圖1到圖14,是本發明實施例提供的一種薄膜圖案層的制造方法示意圖,該方法的步驟如下:
步驟一:提供一個基板100,如圖1所示。本實施例中該基板材料選用玻璃。當然,基板材料也可選用石英玻璃、硅晶片(Silicon?Wafer)、金屬或塑料等。
步驟二:在該基板100上形成多個擋墻102,該擋墻限定多個收容空間104,如圖2所示。擋墻102是由樹脂材料組成。該擋墻102可通過光罩對光阻材料層曝光顯影形成。
步驟三:通過噴墨頭200將所需的墨水噴入收容空間104內,并且使用至少兩個噴嘴202、204對同一個收容空間104噴墨,如圖3及圖4所示。
以收容空間104為例,先使用噴墨頭200中的噴嘴202對收容空間104噴墨,接著朝收容空間104的方向水平移動噴墨頭200,噴嘴204再對收容空間104噴墨。
作為步驟三的第二種實施方式,也可通過一噴墨頭300將所需的墨水噴入收容空間104內,并且使用至少兩個噴嘴302、304對同一個收容空間104噴墨,如圖5至圖8所示:
以收容空間104為例,噴墨頭300先沿著第一方向移動;
噴墨頭300中的噴嘴302對收容空間104噴墨;
噴墨頭300繼續沿著第一方向移動;
在噴墨頭300移動到收容空間104的右側后,再沿著與第一方向垂直的第二方向移動噴墨頭300;
當噴墨頭300移動至噴嘴304與收容空間104在同一直線上,噴墨頭300沿著第一方向的反方向移動;
噴嘴304再對收容空間104噴墨;
噴墨頭300繼續沿著第一方向的反方向移動。
作為步驟三的第三種實施方式,也可通過噴墨頭400、500將所需的墨水噴入收容空間104內。在本實施方式中,噴墨頭400、500是為同一型號的噴頭,設置在同一機臺(圖未示),且兩者相對位置保持固定。使用噴墨頭400、500中的噴嘴402、502對同一個收容空間104噴墨,如圖9至圖12所示。
將噴墨頭400、500可視作一個整體,該整體的運動軌跡與步驟三的第二種實施方式中噴墨頭300的運動軌跡一樣,在此不再一一贅述。以收容空間104為例,先使用噴墨頭500中的噴嘴502對收容空間104噴墨,然后使用噴墨頭400噴嘴402再對收容空間104噴墨。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于虹創科技股份有限公司,未經虹創科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200610080406.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





