[發(fā)明專利]使用至少兩個(gè)分辨率級(jí)來表示圖像區(qū)域的方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200610080356.6 | 申請(qǐng)日： | 2002-09-09 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN1869821A | 公開（公告）日： | 2006-11-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 托布喬恩·桑德斯特羅姆;馬丁·奧爾森;珀·埃爾姆福斯;斯蒂芬·古斯塔夫森 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 麥克羅尼克激光系統(tǒng)公司 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/20 | 分類號(hào)： | G03F7/20;G03F7/14;G06T15/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人： | 黃小臨;王志森 |
| 地址： | 瑞典*** | 國(guó)省代碼： | 瑞典;SE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 使用 至少 兩個(gè) 分辨率 表示 圖像 區(qū)域 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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- 同類專利
- 專利分類
G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
- 至少三個(gè)至少三處操作點(diǎn)共構(gòu)鍵的鍵盤
- 至少部分地生成和/或至少部分地接收至少一個(gè)請(qǐng)求
- 至少部分地由晶片制成并且包括至少一個(gè)復(fù)制的集成電路的至少一個(gè)管芯
- 帶有至少一個(gè)通道和至少兩種液體的設(shè)備
- 包括至少一個(gè)定子和至少兩個(gè)轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)電機(jī)
- 用于生成至少一個(gè)對(duì)象的至少一個(gè)標(biāo)志的方法
- 用于生成至少一個(gè)對(duì)象的至少一個(gè)標(biāo)志的設(shè)備
- 具有至少兩個(gè)腔和至少一個(gè)轉(zhuǎn)移閥的裝置
- 至少兩個(gè)制動(dòng)襯墊和至少一個(gè)彈簧的組件
- 至少五層的光學(xué)裝置
