[發明專利]多層反射鏡光譜純濾光片、光刻設備以及裝置制造方法有效
| 申請號： | 200610079943.3 | 申請日： | 2006-04-26 |
| 公開（公告）號： | CN1854771A | 公開（公告）日： | 2006-11-01 |
| 發明（設計）人： | M·M·J·W·范赫爾彭;L·P·巴克;V·Y·巴尼納;D·J·W·克倫德 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/08 | 分類號： | G02B5/08;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 楊凱;梁永 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 多層 反射 光譜 濾光 光刻 設備 以及 裝置 制造 方法 | ||
【說明書】：
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