[發(fā)明專利]使用溶液基前體的原子層沉積方法和設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200610077801.3
• 申請日: 2006-04-29
• 公開（公告）號: CN101063196A
• 公開（公告）日: 2007-10-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: C·馬;Q·M·王;P·J·赫爾亞;R·霍格爾
• 申請（專利權(quán)）人: 波克股份有限公司
• 主分類號: C23C16/448
• 分類號: C23C16/448;C23C16/30;C23C16/52;H01L21/205
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司
• 代理人: 沙永生

1.一種原子層沉積方法，它包括：

交替地將蒸發(fā)的前體溶液和蒸發(fā)的反應(yīng)溶液輸送到沉積室中；

在沉積室中的基材表面上形成所述前體溶液和反應(yīng)溶液的組分的單層；

重復(fù)上述步驟直至形成預(yù)定厚度的薄膜；

其中，所述蒸發(fā)的前體溶液包含溶解在乙基環(huán)己烷或辛烷中的[(t-Bu)Cp]₂HfMe₂，和所述薄膜是HfO₂；

所述前體溶液在室溫下被輸送到蒸發(fā)器中蒸發(fā)，而不分解或凝結(jié)。