[發明專利]具有浮雕圖紋的布料的制造方法和其制得的布料

有效

• 申請號: 200610076483.9
• 申請日: 2006-04-20
• 公開（公告）號: CN101058947A
• 公開（公告）日: 2007-10-24
• 發明（設計）人: 廖義鴻;陳永欽;湛信源
• 申請（專利權）人: 福懋興業股份有限公司
• 主分類號: D06Q1/02
• 分類號: D06Q1/02;D03D15/00
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 王允方;劉國偉

技術領域

本發明涉及織布與染整的技術領域，尤其涉及一種在布料表面形成具有浮雕圖紋的布料的方法。

背景技術

現有布料上的圖案大致分為平面和立體兩種。平面圖案多以染印形成，染印速度快且花色固定，但為平面圖案而沒有浮突的立體效果。

一種形成平面圖案的方式稱為減量印花或爛花印花，其是利用單層交織或混紡織物中不同纖維的耐化學腐蝕性質差異，通過印花方法施加爛花酸劑在織物局部表面，以去除織物中一種纖維，保留耐酸纖維而形成半透明花紋。但由于織物中少了部分纖維，使得織物變薄，在經多次水洗或使用后，容易變形或脫紗掉線。

立體圖案的形成方式大多為刺繡和提花兩種。刺繡方式是在織造完成的布料上，另外以計算機繡花技術繡上所設計的圖案，所以成本較高，且布料的兩面均留有線紋。提花剪花是提花的一種，針對需要加強表現的圖案以增加較粗的緯紗織入，而圖案以外的部分則以不織入的方式織布，剛完成的布料會如第三圖所示，布料其中一面的圖紋部(30)與圖紋部(30)之間以許多未織入的紗線(300)拉引。因此，完成織布以后需要另外以剪刀將未織入的紗線(300)剪掉，僅留下圖紋部(30)，所以其需要二次加工很麻煩，且成本較高，圖案顏色的表現與刺繡的花紋相比較差。

現有于布料上形成浮雕圖紋的方式具有加工繁瑣復雜且花紋不明顯的缺點，確實有改進的必要。

發明內容

為了改善上述現有刺繡或提花剪花浮雕圖紋的限制和缺點和弊端，本發明的主要目的在于提供一種可以在布料上快速形成浮雕圖紋的制造方法。

本發明的具有浮雕圖紋的布料的制造方法，其包括：

提供-以人造纖維和天然纖維交織成具有一人造纖維層和一天然纖維層的布料；

將碳化劑印刷于所述天然纖維層的表面上構成圖紋或圖紋以外的區域；

將印刷有碳化劑的天然纖維區域碳化，而不碳化人造纖維層；和

去除所述天然纖維層的碳化部分，以在所述人造纖維層表面形成浮雕圖紋。

附圖說明

第一圖為本發明制造方法的流程圖。

第二圖為本發明制造方法的側視和平面示意圖。

第三圖為常規剛完成提花剪花的布料的示意圖。

第四圖為以本發明制造方法制得的具有浮雕圖紋的布料的示意圖。

具體實施方式

在上述方法中所使用的天然纖維可為任何天然纖維，例如但不限于棉、麻、絲或毛；人造纖維可為任何人造纖維，例如但不限于嫘縈纖維、尼龍纖維、聚酯纖維或壓克力纖維。

在上述方法中所使用的碳化劑可為技術中任何已知適合用于印花的碳化劑，其包含以不同比例混合的糊料(優選為約5至約95％之間)、酸和視需要的染料，其中糊料可為技術中任何已知適合用于印花的糊料，例如但不限于淀粉、豆糊、淀粉醚、樾膠或纖維素醚；酸可為任何酸性化學品，例如但不限于一般的硫酸或硫酸鋁；和染料可為任何反應性染料、甕染料、分散性染料或酸性染料。在本發明方法中，糊料的實例例如但不限于，義田化學的燒花糊YT-ME-507或SENKA公司的PRINTGEN?OP-30PS，KSE-1+H糊；碳化劑的實例例如但不限于包含硫酸鋁、糊料、甘油和水的碳化劑；且碳化劑的粘度優選介于約1,000至約50,000之間。

在本發明方法的具體實施方面中，碳化步驟包含將印花后的布料送到發色(FC)機臺，在溫度約80至約250℃，速度約5至約200米/分鐘的條件下進行碳化，時間約10秒至5分鐘，使得印刷有碳化劑的天然纖維區域，因為碳化劑的腐蝕而碳化，而人造纖維層并不因為碳化劑而碳化。值得注意的是，在實際生產中，為了使碳化適當，應根據蒸氣壓力、圖紋大小、織物厚薄等因素及時調整溫度、速度或時間。

在上述方法的具體實施方面中，去除步驟包含以皂洗或清水沖洗布料，洗除天然纖維層的碳化部分，以在人造纖維層表面形成浮雕圖紋。洗滌溫度不宜過高，優選的洗滌溫度約25至約135℃，且時間為約10至約50分鐘。

以下實施例用于對本發明作進一步說明，但不是用以限制本發明的范圍。任何所屬領域的技術人員可輕易達到的修改和改變均包括于本案說明書揭示內容和所附權利要求的范圍內。

實施例

請同時參看第一和二圖所示，按下列步驟制得具有浮雕圖紋的布料：

織布：以人造纖維和天然纖維交織成具有人造纖維層(10)和天然纖維層(20)的雙層織造布料(1)；

印刷碳化劑：將調配好包含40％的硫酸鋁、35％的豆糊、5％的甘油和20％的水的碳化劑，印刷于天然纖維層(20)的一面構成圖紋部(21)以外的區域；