[發(fā)明專利]采用再布線技術而形成于半導體基板上的差動放大電路無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610075325.1 | 申請日: | 2006-04-12 |
| 公開(公告)號: | CN1848668A | 公開(公告)日: | 2006-10-18 |
| 發(fā)明(設計)人: | 中村政則;小島嚴 | 申請(專利權)人: | 松下電器產業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | H03F1/26 | 分類號: | H03F1/26;H03F3/45 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 采用 布線 技術 形成 半導體 基板上 差動 放大 電路 | ||
【權利要求書】:
下載完整專利技術內容需要扣除積分,VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于松下電器產業(yè)株式會社,未經松下電器產業(yè)株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200610075325.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:內燃機的馬達驅動式節(jié)氣門控制裝置
- 下一篇:硫代苯基氨基咪唑啉





