[發明專利]光刻裝置和器件制造方法有效
| 申請號： | 200610074086.8 | 申請日： | 2006-04-04 |
| 公開（公告）號： | CN1847987A | 公開（公告）日： | 2006-10-18 |
| 發明（設計）人： | M·巴克斯;S·N·L·唐德斯;C·A·胡根達姆;J·H·W·雅各布斯;N·坦卡特;N·R·坎帕;F·米各徹爾布林克;E·伊弗斯 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 裝置 器件 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
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