[發明專利]用于光學臨近修正的方法和系統有效
| 申請號： | 200610073023.0 | 申請日： | 2006-04-10 |
| 公開（公告）號： | CN1869819A | 公開（公告）日： | 2006-11-29 |
| 發明（設計）人： | 馬哈拉·馬克赫吉;斯科特·M·曼斯菲爾德;艾倫·E·羅森布拉特;卡費·萊 | 申請（專利權）人： | 國際商業機器公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/027;G06F17/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 | 代理人： | 酆迅 |
| 地址： | 美國*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 光學 臨近 修正 方法 系統 | ||
【說明書】：
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