[發(fā)明專利]判定半導(dǎo)體工藝條件的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610071587.0 | 申請日： | 2006-03-30 |
| 公開（公告）號： | CN101046636A | 公開（公告）日： | 2007-10-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 周文湛;于勁;施繼雄 | 申請（專利權(quán)）人： | 聯(lián)華電子股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人： | 陶鳳波;侯宇 |
| 地址： | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 判定 半導(dǎo)體 工藝 條件 方法 | ||
【說明書】：
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- 專利分類
G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
- 限制條件解決方法、限制條件解決裝置、以及限制條件解決系統(tǒng)
- 制造條件設(shè)定系統(tǒng)及制造條件設(shè)定方法
- 成形條件確定方法及成形條件確定系統(tǒng)
- 成形條件設(shè)定裝置、成形條件設(shè)定方法及成形條件設(shè)定畫面
- 攝影條件設(shè)定設(shè)備、攝影條件設(shè)定方法和攝影條件設(shè)定程序
- 生理?xiàng)l件監(jiān)視系統(tǒng)、生理?xiàng)l件傳感器和生理?xiàng)l件儀表
- 成形條件設(shè)定裝置、成形條件設(shè)定方法及成形條件設(shè)定畫面
- 條件訪問設(shè)備
- 用于條件切換的裝置、方法、介質(zhì)和系統(tǒng)
- 基于條件分布的條件生成對抗網(wǎng)絡(luò)
