[發(fā)明專利]長波長微機(jī)械可調(diào)諧濾波器的結(jié)構(gòu)和制作方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610067135.5 | 申請日: | 2006-04-03 |
| 公開(公告)號: | CN101051162A | 公開(公告)日: | 2007-10-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳旭明;王小東;譚滿清 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所 |
| 主分類號: | G02F1/21 | 分類號: | G02F1/21 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 湯保平 |
| 地址: | 100083北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 波長 微機(jī) 調(diào)諧 濾波器 結(jié)構(gòu) 制作方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是一種GaAs基長波長微機(jī)械可調(diào)諧濾波器的結(jié)構(gòu)。本發(fā)明還涉及制造這種結(jié)構(gòu)的制作工藝和方法。
背景技術(shù)
隨著人們對信息量需求的急劇增長,光網(wǎng)絡(luò)逐漸成為未來信息技術(shù)競爭的制高點(diǎn)。目前光纖通信的單信道速率已經(jīng)高達(dá)40Gb/s,再提高的余地已經(jīng)不大,為了滿足人們?nèi)找嬖鲩L的信息需求,WDM(波分復(fù)用)技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。通過WDM技術(shù),使單根光纖的傳輸容量迅速擴(kuò)大幾十甚至上百倍,是目前突破Tb/s的超大信息容量傳輸?shù)奈ㄒ患夹g(shù)。可調(diào)諧濾波器由于其對一定范圍內(nèi)的特定波長有實(shí)時(shí)選擇通過的作用,可以獨(dú)立對信息流進(jìn)行控制和處理,被廣泛地運(yùn)用于WDM系統(tǒng)。微機(jī)械可調(diào)諧濾波器因其突出的寬調(diào)諧、可集成、低成本等特點(diǎn),已為國際上研究的熱點(diǎn)。
微機(jī)械可調(diào)諧濾波器的基本原理是基于F-P腔干涉,它主要由上下兩個(gè)DBR反射鏡和腔構(gòu)成。考慮到于與其它半導(dǎo)體光電子器件的集成,目前研究人員主要在InP和GaAs等光電子材料上研制微機(jī)械可調(diào)諧濾波器。對于微機(jī)械可調(diào)諧濾波器,DBR反射鏡主要采用InP/Air、InGaAsP/InP、GaAs/AlGaAs、Al2O3/GaAs、Si/SiO2、SiO2/TiO2等;腔一般是空氣腔,由選擇腐蝕工藝制出。一些微機(jī)械可調(diào)諧濾波器采用InP/Air作為上下DBR反射鏡,只需2.5對InP/Air即可達(dá)到99.9%的反射率,但是這種結(jié)構(gòu)需要腐蝕5層出空氣層,對材料間的應(yīng)力控制、選擇腐蝕工藝提出了很高的要求,易出現(xiàn)粘連現(xiàn)象。也有一些微機(jī)械可調(diào)諧濾波器采用InGaAsP/InP作為下DBR,這種類型的DBR需要40對以上才能達(dá)到99.9%的反射率,這對外延生長是一個(gè)不小的難題。還有一些微機(jī)械可調(diào)諧濾波器采用GaAs/AlGaAs作上DBR,這種類型的DBR比較厚,導(dǎo)致調(diào)諧電壓較高,調(diào)諧系數(shù)較小。總之,目前國際上設(shè)計(jì)的濾波器各有各的特色,但也各存在一些局限,比如材料生長困難、工藝難度大、調(diào)諧電壓較高等。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于,提供一種長波長微機(jī)械可調(diào)諧濾波器的結(jié)構(gòu)和制作方法,具有材料生長容易、工藝簡單、調(diào)諧電壓較高的優(yōu)點(diǎn)。
本發(fā)明一種長波長微機(jī)械可調(diào)諧濾波器的結(jié)構(gòu),其特征在于,該結(jié)構(gòu)包括:
一襯底,該襯底為n型砷化鎵襯底;
一緩沖層,該緩沖層制作在襯底上;
一下布拉格反射鏡,該下布拉格反射鏡制作在緩沖層上,是濾波器的下反射鏡;
一n型歐姆接觸層,該n型歐姆接觸層制作在下布拉格反射鏡上,用來制作下電極;
一空氣腔,該空氣腔制作在n型歐姆接觸層上,用于調(diào)諧波長;
一四臂固支梁,該四臂固支梁制作在空氣腔上;
一上布拉格反射鏡,該上布拉格反射鏡制作在四臂固支梁上,是濾波器的上反射鏡;
一p電極,該p電極制作在四臂固支梁的上面;
一n電極,該n電極制作在n型歐姆接觸層的上面。
其中所述的下布拉格反射鏡由23對組合材料組成,每一對組合材料包括砷化鎵和鋁鎵砷;鋁鎵砷與砷化鎵之間的晶格失配小,在砷化鎵襯底上生長砷化鎵/鋁鎵砷布拉格反射鏡應(yīng)力小。
其中所述濾波器結(jié)構(gòu)只需要一個(gè)空氣腔。
其中所述四臂固支梁厚度小于1微米,這樣使調(diào)諧系數(shù)高,調(diào)諧電壓低。
其中所述上布拉格反射鏡由3對組合材料組成,每一對組合材料包括二氧化硅和硅;二氧化硅和硅有高的反射帶寬,可以覆蓋整個(gè)上布拉格反射鏡的帶寬,不會導(dǎo)致上下布拉格反射鏡對不準(zhǔn)。
其中所述n型歐姆接觸層是n型,四臂固支梁摻硅成為p型,這樣兩者之間就構(gòu)成了一個(gè)PN結(jié);如果給器件加反偏電壓,那么由于靜電吸引,四臂固支梁的中心就會向下彎曲,縮短空氣腔,從而可以調(diào)諧透射波長。
本發(fā)明波長微機(jī)械可調(diào)諧濾波器結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于,該方法包括如下步驟:
(1)在砷化鎵襯底上依次生長緩沖層、下布拉格反射鏡、n型歐姆接觸層、制作空氣層所需的鋁鎵砷腐蝕犧牲層和四臂固支梁;
(2)通過光刻工藝形成四臂固支梁的初始圖形,用腐蝕液腐蝕出一定深度的臺面;
(3)采用選擇腐蝕液,選擇腐蝕腐蝕犧牲層的鋁鎵砷而不腐蝕砷化鎵,露出底下的n型歐姆接觸層;
(4)在片子表面涂光刻膠,然后利用光刻版在四個(gè)支柱上和臺面下的砷化鎵光刻出p電極和n電極所需的窗口;在片子表面蒸鉻金,然后帶膠剝離,形成p電極和n電極;
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





