[發明專利]等離子體處理裝置和等離子體處理方法有效
| 申請號： | 200610066499.1 | 申請日： | 2006-03-31 |
| 公開（公告）號： | CN1842242A | 公開（公告）日： | 2006-10-04 |
| 發明（設計）人： | 松本直樹;田中秀朗;藤原尚;輿水地鹽;小巖史明;小林俊之;仲山陽一;中村博 | 申請（專利權）人： | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號： | H05H1/46 | 分類號： | H05H1/46;H01J37/32;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京紀凱知識產權代理有限公司 | 代理人： | 龍淳 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子體 處理 裝置 方法 | ||
【說明書】：
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