[發(fā)明專利]LCD生產(chǎn)中減少液晶氣泡發(fā)生的產(chǎn)品工藝制程控制方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200610063265.1 | 申請(qǐng)日: | 2006-10-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101169563A | 公開(公告)日: | 2008-04-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姚紹民 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 比亞迪股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1339 | 分類號(hào): | G02F1/1339;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 深圳創(chuàng)友專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 陳俊斌 |
| 地址: | 518119廣東省深*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | lcd 生產(chǎn) 減少 液晶 氣泡 發(fā)生 產(chǎn)品 工藝 程控 方法 | ||
1.一種LCD生產(chǎn)中減少液晶氣泡發(fā)生的產(chǎn)品工藝制程控制方法,其特征是,對(duì)襯墊材料選擇、框膠展寬、封口整平壓力進(jìn)行優(yōu)化選擇:選擇恢復(fù)率小于95%、硬度大于40的襯墊材料;框膠展寬為1.7~2.5倍;封口整平壓力控制于0.45kgf/cm2以下。
2.如權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品工藝制程控制方法,其特征是,STN-LCD的襯墊選擇密度為:100~140pcs/mm2的材料,CSTN-LCD的襯墊選擇密度為:160~200pcs/mm2的材料。
3.如權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品工藝制程控制方法,其特征是:STN-LCD的面襯墊和邊框襯墊材料選擇為粒徑相差0.2微米以上。
4.如權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品工藝制程控制方法,其特征是,STN-LCD的面襯墊料選擇為:L-11NR系列、KBS,邊框襯墊選擇為:PF玻璃絲;CSTN-LCD的面襯墊選擇為:KBS/KBS-RX/KBS-RS系列、L-S-DE系列,邊框襯墊料選擇為:SI玻璃球。
5.如權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品工藝制程控制方法,其特征是:在二次清洗工序中,超聲波控制電流為2.0~3.0A。
6.如權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品工藝制程控制方法,其特征是:框膠的寬度依據(jù)玻璃的大小、非可視區(qū)的大小設(shè)定,框膠膨脹后位于可視區(qū)外,框膠膨脹后覆蓋ITO。
7.如權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品工藝制程控制方法,其特征是:玻璃FPC壓貼時(shí),在能吸住LCD屏的前提下,吸附LCD屏?xí)r真空度控制-80Mpa以下。
8.如權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品工藝制程控制方法,其特征是:對(duì)于STN-LCD基本粒徑的比率為面襯墊(CV值5%)∶邊框襯墊∶金球=1∶1.05∶1.1~1.15;CSTN基本粒徑的比率為面襯墊(CV值3%)∶邊框襯墊∶金球=邊框襯墊粒徑/1.05-X/2∶目標(biāo)盒厚+X+0.1~0.3∶邊框襯墊粒徑*(1.1~1.15/1.05)。
9.如權(quán)利要求6所述的產(chǎn)品工藝制程控制方法,其特征是:框膠的寬度為0.25mm以上,框膠的膨脹倍率按210%計(jì)算。
10.如權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的產(chǎn)品工藝制程控制方法,其特征是:在向液晶舟內(nèi)添加液晶之前,將液晶舟完全固定;第一次向液晶舟內(nèi)添加液晶至與槽面平齊;在灌液過(guò)程中,玻璃工裝固定,首框必須對(duì)位時(shí)封口盡量在槽的中心。
11.如權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的產(chǎn)品工藝制程控制方法,其特征是:在灌液過(guò)程中,出現(xiàn)氣泡時(shí),短暫沖氮?dú)猓缓罄^續(xù)抽真空,反復(fù)多次,直至無(wú)氣泡為止;在脫泡過(guò)程中將裝測(cè)試合格液晶的錐形瓶同時(shí)放入灌液晶機(jī)內(nèi)進(jìn)行脫泡處理。
12.如權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的產(chǎn)品工藝制程控制方法,其特征是:灌液晶房濕度維持于50±5%RH,溫度維持于23±2℃。
13.如權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的產(chǎn)品工藝制程控制方法,其特征是:熱壓固化時(shí),溫度維持穩(wěn)定均勻,玻璃表面的實(shí)際溫度測(cè)試要求為150~180℃,時(shí)間保持至少90分鐘。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于比亞迪股份有限公司,未經(jīng)比亞迪股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200610063265.1/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:多頭鋁箔開卷機(jī)構(gòu)
- 下一篇:交叉主備倒換的方法
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
- 生產(chǎn)系統(tǒng)和生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)設(shè)備和生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)系統(tǒng)及產(chǎn)品生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)藥品的生產(chǎn)線和包括該生產(chǎn)線的生產(chǎn)車間
- 生產(chǎn)輔助系統(tǒng)、生產(chǎn)輔助方法以及生產(chǎn)輔助程序
- 生產(chǎn)系統(tǒng)、生產(chǎn)裝置和生產(chǎn)系統(tǒng)的控制方法
- 石料生產(chǎn)機(jī)制砂生產(chǎn)系統(tǒng)
- 生產(chǎn)系統(tǒng)以及生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)系統(tǒng)及生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)系統(tǒng)和生產(chǎn)方法





