[發(fā)明專利]光學(xué)板及采用該光學(xué)板的背光模組無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200610062065.4 | 申請(qǐng)日: | 2006-08-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101122703A | 公開(公告)日: | 2008-02-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 章紹漢 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1335 | 分類號(hào): | G02F1/1335;G02B5/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518109廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 采用 背光 模組 | ||
1.一種光學(xué)板,其包括一透明基板及一擴(kuò)散層,該透明基板包括一出光面以及一與該出光面相對(duì)的連接面,其特征在于:該透明基板于該連接面形成有多個(gè)點(diǎn)狀凹槽,該擴(kuò)散層附著于該連接面并填充該多個(gè)凹槽。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)板,其特征在于:該多個(gè)點(diǎn)狀凹槽呈陣列排布,每個(gè)凹槽的軸中心具有最大的深度且其深度由中部向四周的相應(yīng)逐漸減小。
3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)板,其特征在于:每一點(diǎn)狀凹槽經(jīng)過其中心軸的斷面為三角形、梯形和部分圓形中至少一種。
4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)板,其特征在于:該擴(kuò)散層包括有透明樹脂基材,以及摻雜于該透明樹脂基材的第一散射粒子以及第二散射粒子,其中第一散射粒子的折射率比第一散射粒子的折射率大。
5.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)板,其特征在于:該透明樹脂基材的重量百分含量為5%至90%,該第一散射粒子與第二散射粒子的重量百分含量之和為10%至95%,該第一散射粒子與第二散射粒子重量百分含量之比為5至100。
6.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)板,其特征在于:該第一散射粒子的折射率為1.4至1.7,該第二散射粒子的折射率為大于等于2.0。
7.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)板,其特征在于:該第一散射粒子為聚苯乙烯顆粒、聚碳酸酯顆粒、苯乙烯-丙烯腈共聚物顆粒、聚丙烯顆粒、二氧化硅顆粒、聚甲基丙烯酸甲酯顆粒、玻璃微珠、玻璃微珠或石英粉顆粒中的一種或一種以上的混合物。
8.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)板,其特征在于:該第二散射粒子為二氧化鈦顆粒、硫酸鋇顆粒、硫化鋅顆粒、氧化鋅顆粒、氧化銻顆粒或碳酸鈣顆粒中的一種或一種以上的混合物。
9.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)板,其特征在于:該擴(kuò)散層還包括多個(gè)分散摻雜于該透明樹脂基材的熒光粉粒子。
10.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)板,其特征在于:該多個(gè)熒光粉粒子于擴(kuò)散層中的重量百分比為第一散射粒子于擴(kuò)散層中的重量百分比的0.1%以下。
11.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)板,其特征在于:該透明基板還包括多個(gè)形成于該透明基板出光面的微棱鏡結(jié)構(gòu),該微棱鏡結(jié)構(gòu)陣列排布。
12.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)板,其特征在于:該微棱鏡結(jié)構(gòu)包括球面微棱鏡和V型棱柱。
13.一背光模組,其包括一反射板、多個(gè)光源及一光學(xué)板,該反射板與該光學(xué)板相對(duì)設(shè)置,該光學(xué)板包括一透明基板及一擴(kuò)散層,該透明基板包括一出光面以及一與該出光面相對(duì)的連接面,其特征在于:該透明基板于該連接面形成有多個(gè)點(diǎn)狀凹槽,該擴(kuò)散層附著于該連接面并填充該多個(gè)凹槽,該多個(gè)點(diǎn)光源設(shè)置于該反射板并朝向該光學(xué)板,該多個(gè)點(diǎn)光源分別與該多個(gè)凹槽相對(duì)應(yīng)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司,未經(jīng)鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200610062065.4/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





