[發明專利]清洗治具

無效

• 申請號: 200610061748.8
• 申請日: 2006-07-21
• 公開（公告）號: CN101108388A
• 公開（公告）日: 2008-01-23
• 發明（設計）人: 董才士
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: B08B11/02
• 分類號: B08B11/02;B08B3/04;B25B11/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種夾持裝置，尤其涉及一種用于清洗光學元件的清洗治具。

背景技術

隨著多媒體技術的發展，照相機、數碼照相機、手機照相鏡頭等成像器材越來越為廣大消費者青睞，在人們對照相機、數碼照相機、手機照相鏡頭追求小型化的同時，對其拍攝出物體的影像質量提出更高的要求，即希望拍攝物體的影像畫面清晰，而物體的成像質量于很大程度上取決于相機內各光學儀器的優劣。

相機內成像模組一般包括透鏡、光學濾光片及影像感測元件，如電荷耦合器(Charge?Coupled?Device，簡稱CCD)，或者補充性氧化金屬半導體(Complementary?Metal-Oxide?Semiconductor，簡稱CMOS)。在生產透鏡及光學濾光片等這些光學元件過程中，為達到較高的潔凈度，一般在這些光學元件鍍膜前及鍍膜后，都需經過清洗過程，目的是為了去除附著于這些光學元件表面的臟污、油漬及微粒等。而在清洗過程中，需將這些光學元件固定于治具上，并以適當的溶液及高純度去離子水進行清洗。

一般的光學元件清洗用的清洗治具40，如圖1所示，該清洗治具40是利用三點固定的方式固定待清洗之光學元件50。治具40中的三個清洗條402是可在此治具40上做適當距離的調整，利用嵌在該清洗條402上鐵氟龍(Teflon)材料所形成的V槽404，分別在元件的左、右、下方給予支撐。但是，鐵氟龍所形成的V槽404的厚度及深度會阻擋水流，使光學元件50被夾持的部份清洗不干凈，再者在清洗過程中，若夾持光學元件50太松，光學元件50無法承受后期超音波震蕩而脫落。或夾持太緊，光學元件50不易放入及不易取出，容易造成損壞。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種可有效輔助清洗光學元件的清洗治具。

一種用于清洗光學元件的清洗治具，其中，包括：一個蓋體及一個本體。該蓋體開設多個第一通孔，該多個第一通孔呈蜂窩狀排列分布在該蓋體上。該本體開設有與多個第一通孔相對應的多個第二通孔，該多個第二通孔呈蜂窩狀排列在該本體上，每個第二通孔具有一個第一開口與一個第二開口，蓋體與本體配合時，第一開口較第二開口更接近該蓋體，可使蓋體與本體配合清洗時，于治具中形成多個用于收容光學元件的收容空間，該收容空間限定該光學元件，以防止該光學元件從第一通孔或第二通孔的第二開口脫落。

所述的清洗治具，通孔的蜂窩狀排列方式可以在相同的治具面積中達到最大設置的通孔的數量，從而可增加收容待清洗光學元件的數量。在蓋體與本體配合清洗時，可形成用于收容待清洗的光學元件的收容空間，光學元件在收容空間內有活動的空間，不會阻擋清洗液的流動，使光學元件在清洗過程中可全面接觸清洗液，從而可被全面清洗，提高了清洗潔凈度與良率。由于在清洗過程中，光學元件被限定在收容空間內，不會造成脫落；清洗完畢后，只需將蓋體與本體分離，便可方便地取出光學元件。

附圖說明

圖1為現有技術的一種用于清洗光學元件的清洗治具的使用狀態示意圖。

圖2為本發明第一實施例提供的一種用于清洗光學元件的清洗治具截面示意圖。

圖3為圖2所示清洗治具的一種蓋體的一個截面示意圖。

圖4為圖2所示清洗治具的一種蓋體的一個平面示意圖。

圖5為圖2所示清洗治具的一種本體的一個平面示意圖。

圖6為圖5所示清洗治具的一種本體的一個截面示意圖。

圖7為圖2所示清洗治具在清洗過程中的一個使用狀態示意圖。

圖8為圖2所示清洗治具在清洗過程中的另一個使用狀態示意圖。

圖9為本發明第二實施例提供的一種用于清洗光學元件的清洗治具截面示意圖。

圖10為圖9所示清洗治具的一種蓋體的一個截面示意圖。

圖11為圖9所示清洗治具的一種蓋體的一個平面示意圖。

圖12為圖9所示清洗治具的一種本體的一個平面示意圖。

圖13為圖9所示清洗治具的一種本體的一個截面示意圖。

圖14為圖9所示清洗治具在清洗過程中的一個使用狀態示意圖。

圖15為圖9所示清洗治具在清洗過程中的另一個使用狀態示意圖。

圖16為本發明第三實施例提供的一種用于清洗光學元件的清洗治具截面示意圖。

圖17為圖16所示清洗治具在清洗過程中的一個使用狀態示意圖。

圖18為圖16所示清洗治具在清洗過程中的另一個使用狀態示意圖。

具體實施方式

下面將結合附圖對本發明實施例作進一步的詳細說明。