[發明專利]組合式坩堝無效
| 申請號: | 200610061368.4 | 申請日: | 2006-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN101096748A | 公開(公告)日: | 2008-01-02 |
| 發明(設計)人: | 簡士哲 | 申請(專利權)人: | 鴻富錦精密工業(深圳)有限公司;鴻海精密工業股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24 |
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| 地址: | 518109廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 組合式 坩堝 | ||
技術領域
本發明涉及一種組合式坩堝,特別是一種蒸鍍用坩堝(Crucible?for?Thermal?Evaporation)。
背景技術
蒸鍍(Evaporation)法是一種屬于物理氣相沉積(PhysicalVapor?Deposition)的鍍膜應用技術,其是將一種用于沉積薄膜的材料放置在一個坩堝(Crucible)內施加熱能,使該材料分解為氣態的原子、原子集合體或分子,以凝聚在待鍍膜基板表面而形成薄膜,施加熱能可以使用電阻加熱器、鹵素燈加熱器或感應加熱器等。蒸鍍法可廣泛應用于制造太陽能電池、半導體晶片、平面顯示器、光學鏡片、裝飾鍍膜等領域。坩堝是蒸鍍設備中的重要元件之一。
請同時參考圖1和圖2,一種組合式坩堝100由無底錐形坩堝110和坩堝底座120組成,該無底錐形坩堝110的尾部112放置在坩堝底座120的收容部122內。該坩堝110也可為尾部為U型坩堝及開口側壁向外延伸具有一延伸部的坩堝等。蒸鍍用坩堝通常采用耐高溫抗蒸發的材質所制備,如鉬、鎢等。當無底錐形坩堝110放置在坩堝底座的收容部122內時,無底錐形坩堝110與坩堝底座的收容部122接觸面積較小且無底錐形坩堝110與坩堝底座的收容部122之間存在一定的間隙130,進而造成導熱效果不良。
有鑒于此,提供一種導熱效果較好的組合式坩堝實為必要。
發明內容
以下將以實施例說明一種組合式坩堝。
一種組合式坩堝,其包括坩堝及坩堝底座,該坩堝底座具有收容部,該坩堝設置在該收容部內,該坩堝的外壁與該收容部的內壁通過凹凸結構相嚙合,用以增大坩堝及坩堝底座的接觸面積。
該組合式坩堝可以用于多種不同蒸鍍設備,利用不同的加熱方式對該組合式坩堝進行加熱時,由于該坩堝的外壁與該收容部的內壁上相嚙合,故坩堝會受熱膨脹從而和坩堝底座緊密的貼合,所以二者之間具有很好的導熱效果。由于制程的需要,需要利用冷卻裝置對組合式坩堝進行冷卻時,由于該坩堝的外壁與該收容部的內壁上相嚙合,坩堝和坩堝底座之間可以很好的貼合且具有較大的接觸面積,故該組合式坩堝具有很好的冷卻效果。
附圖說明
圖1是現有組合式坩堝的結構示意圖。
圖2是圖1中組合式坩堝沿II-II的截面示意圖。
圖3是本發明組合式坩堝第一實施例的結構示意圖。
圖4是圖3中組合式坩堝沿IV-IV的截面示意圖。
圖5是本發明組合式坩堝第二實施例的結構示意圖。
圖6是圖5中組合式坩堝沿VI-VI的截面示意圖。
圖7是本發明組合式坩堝第三實施例的結構示意圖。
圖8是圖7中組合式坩堝沿VIII-VIII的截面示意圖。
圖9是本發明組合式坩堝第四實施例的結構示意圖。
圖10是圖9中組合式坩堝沿IX-IX的截面示意圖。
圖11是本發明組合式坩堝的坩堝的截面示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖對本發明作進一步詳細說明。
請同時參考圖3和圖4,本發明第一實施例的組合式坩堝200包括坩堝210和坩堝底座220,該坩堝210為圓筒形,該坩堝210的外壁上的凸起為螺紋型排布的螺牙212,該坩堝底座220具有收容部222。該收容部222的內壁具有與上述螺牙212相配合的螺紋型凹槽224,該坩堝210可以旋入該坩堝底座220的收容部222內。該坩堝210的材料可以是鉬、銅、鎢、石英玻璃等。
請同時參考圖5和圖6,本發明第二實施例的組合式坩堝300和第一實施例的組合式坩堝200基本相同,不同之處在于:坩堝底座220所具有的收容部222的內壁上亦可具有螺紋型排布的螺牙224’,則該坩堝210的外壁具有與該收容部222的內壁上的螺牙224’相配合的凹槽212’。
利用不同的加熱方式對該組合式坩堝200進行加熱時,坩堝210因受熱會少許膨脹,由于坩堝210的外壁具有螺紋型排布的螺牙212,該收容部222的內壁具有與該坩堝210的外壁上的螺牙212相配合的螺紋型凹槽224,坩堝210和坩堝底座220之間具有較大的接觸面積,所以二者之間具有很好的導熱效果。同理,利用冷卻裝置(圖未示)對組合式坩堝200進行冷卻時,坩堝210和坩堝底座220之間具有較大的接觸面積,故該組合式坩堝200具有很好的冷卻效果。
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