[發明專利]一種對粉體表面進行鍍膜的工藝及其設備

有效

• 申請號: 200610060920.8
• 申請日: 2006-05-30
• 公開（公告）號: CN101082120A
• 公開（公告）日: 2007-12-05
• 發明（設計）人: 顏海鵬;焦天宇
• 申請（專利權）人: 比亞迪股份有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/34
• 代理公司: 深圳市港灣知識產權代理有限公司
• 代理人: 胡亞宏

1.一種對粉體表面進行鍍膜的工藝，主要包括：提供有真空環境的工作室；讓粉體在真空環境中下落，在下落過程中，采用真空鍍膜發生源對粉體表面實施鍍覆，其特征在于：上述的真空環境設有一倒錐型或類倒錐型可旋轉的料斗，所述真空鍍膜發生源位于料斗內的中部，粉體在上述真空環境中沿所述旋轉的倒錐型或類倒錐型料斗的壁面下落的過程中作螺旋運動同時還發生翻轉，使粉體表面形成相對均勻的覆層。

2.如權利要求1所述的一種對粉體表面進行鍍膜的工藝，其特征在于：這個旋轉的倒錐型或類倒錐型料斗旋轉速度由驅動電機控制，進而控制粉體表面所獲得的鍍覆厚度。

3.一種對粉體表面進行鍍膜的設備，主要包括真空室、真空鍍膜發生源、真空抽氣系統，其中真空抽氣系統與真空室聯接處設有透氣隔層，真空室上部設有進料室，該進料室與真空室之間由一通氣管連通，真空室下部設有收料室，其特征在于：該真空室內安裝有一個倒錐型或類倒錐型可旋轉的料斗，該料斗上端與進料室連通，而相對的下端與收料室連通，真空鍍膜發生源安裝該料斗內的中部，真空室內壁上固定有用來驅動料斗旋轉的且具有調速功能的電機。

4.如權利要求3所述的一種對粉體表面進行鍍膜的設備，其特征在于：真空室內設有支撐架，該料斗下端外部通過軸承而固定在該支撐架上，固定在真空室內壁上的電機通過皮帶或鏈條與料斗的下端外部的皮帶輪或鏈盤連接。

5.如權利要求3所述的一種對粉體表面進行鍍膜的設備，其特征在于：所述進料室機械連接有振動裝置。

6.如權利要求3所述的一種對粉體表面進行鍍膜的設備，其特征在于：料斗的內壁面為粗糙表面。

7.如權利要求3所述的一種對粉體表面進行鍍膜的設備，其特征在于：真空鍍膜發生源是磁控濺射靶。

8.如權利要求7所述的一種對粉體表面進行鍍膜的設備，其特征在于：所述磁控濺射靶為柱狀靶，該柱狀靶的中心設置水循環冷卻裝置。

9.如權利要求3所述的一種對粉體表面進行鍍膜的設備，其特征在于：所述倒錐型或類倒錐型料斗在其軸截面上的同側，料斗的內壁面的上下沿之間的連線與水平面夾角α為15度至75度間的任意一值。