[發明專利]負型抗蝕劑組合物及圖像形成方法無效
| 申請號： | 200610059991.6 | 申請日： | 2006-01-10 |
| 公開（公告）號： | CN1825206A | 公開（公告）日： | 2006-08-30 |
| 發明（設計）人： | 小板橋龍二;渡邊保;武田隆信;渡邊聰 | 申請（專利權）人： | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/038 | 分類號： | G03F7/038;G03F7/16;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 任宗華 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 負型抗蝕劑 組合 圖像 形成 方法 | ||
【說明書】：
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