[發(fā)明專利]帶有遮光圖像的基板和遮光圖像的形成方法、轉(zhuǎn)印材料、濾色片、以及顯示裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200610058868.2 | 申請(qǐng)日： | 2006-03-08 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN1831646A | 公開(kāi)（公告）日： | 2006-09-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 中村秀之;安藤豪 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 富士膠片株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/004 | 分類號(hào)： | G03F7/004;G03F7/20;G02B5/20;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 國(guó)省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 帶有 遮光 圖像 形成 方法 材料 濾色片 以及 顯示裝置 | ||
【權(quán)利要求書(shū)】：
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- 專利分類
G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
- 彩色圖像和單色圖像的圖像處理
- 圖像編碼/圖像解碼方法以及圖像編碼/圖像解碼裝置
- 圖像處理裝置、圖像形成裝置、圖像讀取裝置、圖像處理方法
- 圖像解密方法、圖像加密方法、圖像解密裝置、圖像加密裝置、圖像解密程序以及圖像加密程序
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- 圖像編碼方法、圖像解碼方法、圖像編碼裝置、圖像解碼裝置、圖像編碼程序以及圖像解碼程序
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- 圖像形成設(shè)備、圖像形成系統(tǒng)和圖像形成方法
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