[發(fā)明專利]鍍銀/鍍錫銅線工藝中銅線圓整度的調(diào)整方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200610039722.3
• 申請日: 2006-04-10
• 公開（公告）號: CN101053877A
• 公開（公告）日: 2007-10-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 駱偉棟
• 申請（專利權(quán)）人: 宜興市意達(dá)銅業(yè)有限公司
• 主分類號: B21C1/04
• 分類號: B21C1/04
• 代理公司: 宜興市天宇知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所
• 代理人: 曹衛(wèi)華

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及銅線鍍銀或鍍錫工藝，尤其是指該工藝中調(diào)整銅線圓整度的方法。

背景技術(shù)

目前鍍錫、鍍銀銅線主要應(yīng)用于特種電纜(耐高溫、耐腐蝕)行業(yè)，如船用電纜、核電纜、電子線行業(yè)、航空線纜、移動通信及軍工軍品等，在使用上除基本技術(shù)指標(biāo)要求符合國家標(biāo)準(zhǔn)外，鍍層厚度、鍍層的同心度、圓整度、致密度等在實際使用中非常重要。而在電鍍過程中，電鍍前和電鍍后的銅線坯線是通過固定的過橋模、聚晶模直線運(yùn)動進(jìn)行拉拔，影響鍍銀、鍍錫銅線的圓整度的主要因素是銅線坯的圓整度和電鍍的同心度，其在拉絲過程中因聚晶模本身的孔形不圓整或因模具的磨損造成電鍍用坯線f值(同一截面直徑的最大值與最小值之差)偏大，坯線f值的偏大加上電鍍過程中電流不穩(wěn)定、密度的不一致、電位不對稱等原因，使鍍銀、鍍錫銅線的f值達(dá)到國家標(biāo)準(zhǔn)，但達(dá)不到Φ0.05mm以下超微細(xì)銅線的加工要求。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明正是為了克服上述不足，提供一種鍍銀/鍍錫銅線工藝中銅線圓整度的調(diào)整方法，使坯線f值控制在小于0.005mm的范圍內(nèi)，主要改要在于將銅坯在聚晶模中拉拔時，將固定不動的聚晶模改為勻速旋轉(zhuǎn)聚晶模，利用PLC控制技術(shù)調(diào)節(jié)電鍍速度和旋轉(zhuǎn)速度，利用模具旋轉(zhuǎn)擠壓的方法，使坯線和鍍銀、鍍錫銅線的f值在轉(zhuǎn)中得到縮小，控制在小于0.005mm的范圍內(nèi)，具體是這樣來實施的：鍍銀/鍍錫銅線工藝中銅線圓整度的調(diào)整方法，電鍍前、后銅線坯于過橋模、聚晶模中進(jìn)行拉拔，其特征在于電鍍前、電鍍后的聚晶模置于一由電機(jī)帶動的旋轉(zhuǎn)模套中，模套的旋轉(zhuǎn)速度為200-500轉(zhuǎn)/分。經(jīng)過過橋模固定拉拔后的銅坯，經(jīng)過聚晶模時，因聚晶模外置有旋轉(zhuǎn)模套，聚晶模隨同模套一起旋轉(zhuǎn)，其旋轉(zhuǎn)速度與拉絲速度成正比，利用PLC控制技術(shù)調(diào)節(jié)拉絲速度和旋轉(zhuǎn)速度，通過模具的旋轉(zhuǎn)擠壓，可使銅坯線和鍍銀、鍍錫銅線的f值在轉(zhuǎn)中得到縮小，保證控制在小于0.005mm的范圍內(nèi)。

本發(fā)明通過在聚晶模置于旋轉(zhuǎn)的模套中，改銅坯線的固定拉拔為旋轉(zhuǎn)中拉拔，獲得的電鍍線扭轉(zhuǎn)試驗達(dá)到正反各50轉(zhuǎn)無鍍層脫落，達(dá)到0.05mm以下超微細(xì)銅線的加工要求。

具體實施方式

鍍銀/鍍錫銅線工藝中銅線圓整度的調(diào)整方法，電鍍前、后銅線坯于過橋模、聚晶模中進(jìn)行拉拔，電鍍前、電鍍后的聚晶模均置于一由電機(jī)帶動的旋轉(zhuǎn)模套中，模套的旋轉(zhuǎn)速度為200-500轉(zhuǎn)/分，旋轉(zhuǎn)速度與拉絲速度成正比。