[發(fā)明專利]用于拋光低介電材料的拋光液

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200610030457.2
• 申請日: 2006-08-25
• 公開（公告）號: CN101130665A
• 公開（公告）日: 2008-02-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宋偉紅;陳國棟;荊建芬;姚穎;宋成兵
• 申請（專利權(quán)）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02
• 代理公司: 上海虹橋正瀚律師事務(wù)所
• 代理人: 李佳銘

1.一種用于拋光低介電材料的拋光液，該拋光液包括磨料和水，其特征在于：還包括一種或多種金屬螯合劑、唑類成膜劑和氧化劑。

2.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的拋光液還包括表面活性劑。

3.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的磨料為SiO₂溶膠顆粒、覆蓋鋁或摻雜鋁的SiO₂溶膠顆粒、Al₂O₃顆粒、高聚物顆粒或它們的混合物。

4.如權(quán)利要求3所述的拋光液，其特征在于：所述的磨料的粒徑是20～150nm。

5.如權(quán)利要求4所述的拋光液，其特征在于：所述的磨料的粒徑是50～120nm。

6.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的金屬螯合劑為一種或多種有機(jī)膦酸或聚有機(jī)酸螯合物。

7.如權(quán)利要求6所述的拋光液，其特征在于：所述的有機(jī)膦酸為：2-磷酸丁烷-1，2，4三羧酸、羥基亞乙基二磷酸、2-羥基膦酰基乙酸、氨基三亞甲基磷酸、二亞乙基三胺五亞甲基磷酸、乙二胺四亞甲基磷酸、多元醇磷酸酯或多氨基多醚基四亞甲基磷酸。

8.如權(quán)利要求6所述的拋光液，其特征在于：所述的聚有機(jī)酸螯合物為聚環(huán)氧琥珀酸、聚天冬氨酸、水解聚馬來酸酐、聚馬來酸酐-聚丙烯酸共聚物、丙烯酸-2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸共聚物、丙烯酸-丙烯酸羥丙酯共聚物或丙烯酸-丙烯酸酯-磷酸-磺酸鹽共聚物。

9.如權(quán)利要求6所述的拋光液，其特征在于：所述的金屬螯合劑重量百分比濃度為0.01～2％。

10.如權(quán)利要求9所述的拋光液，其特征在于：所述的金屬螯合劑重量百分比濃度為0.1～1％。

11.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的唑類成膜劑包括苯并三氮唑及其衍生物、1-苯基-5-巰基-四氮唑、2-巰基-苯并噻唑、苯并咪唑或2-巰基苯并咪唑。

12.如權(quán)利要求11所述的拋光液，其特征在于：所述的唑類成膜劑重量百分比濃度為0.01～1％。

13.如權(quán)利要求12所述的拋光液，其特征在于：所述的唑類成膜劑重量百分比濃度為0.1～0.5％。

14.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的氧化劑為H₂O₂、過硫酸及其鹽或有機(jī)過氧化物。

15.如權(quán)利要求14所述的拋光液，其特征在于：所述的氧化劑重量百分比濃度為0～10％。

16.如權(quán)利要求15所述的拋光液，其特征在于：所述的氧化劑重量百分比濃度為0.1～3％。

17.如權(quán)利要求2所述的拋光液，其特征在于：所述的表面活性劑為陽離子表面活性劑、陰離子表面活性劑、兩性表面活性劑或非離子表面活性劑。

18.如權(quán)利要求17所述的拋光液，其特征在于：所述的表面活性劑為：聚丙烯酸及其鹽、聚丙烯酰銨、聚乙二醇、聚乙烯醇、聚乙烯亞胺、季銨鹽表面活性劑、甜菜堿、氨基酸型表面活性劑、脂肪醇聚氧乙烯醚、葡聚糖或殼聚糖。

19.如權(quán)利要求17所述的拋光液，其特征在于：所述的表面活性劑重量百分比濃度為0.01～0.5％。

20.如權(quán)利要求19所述的拋光液，其特征在于：所述的表面活性劑重量百分比濃度為0.05～0.2％。

21.如權(quán)利要求18所述的拋光液，其特征在于：所述的聚丙烯酸及其鹽的分子量范圍為2000～30萬，聚丙烯酰銨的分子量范圍為1000-500萬，聚乙二醇的分子量范圍為200～10000，聚乙烯醇的分子量范圍為1000-10萬，聚乙烯亞胺的分子量范圍為1000～10萬，葡聚糖的分子量范圍為1000-20萬。

22.如權(quán)利要求1至21任一項(xiàng)所述的拋光液，其特征在于：所述的拋光液還包括有機(jī)胺類化合物、氮雜環(huán)類化合物、甘油或殺菌劑中的一種或多種。