[發(fā)明專利]光學(xué)近似修正的方法及其光掩膜圖案有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610028773.6 | 申請日： | 2006-07-10 |
| 公開（公告）號： | CN101105633A | 公開（公告）日： | 2008-01-16 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王謹(jǐn)恒;楊堅 | 申請（專利權(quán)）人： | 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F1/14;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 逯長明 |
| 地址： | 201203*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學(xué) 近似 修正 方法 及其 光掩膜 圖案 | ||
1.一種光學(xué)近似修正方法，其特征在于包括：
確定具有禁止間距的圖形；
在所述禁止間距圖形兩側(cè)形成復(fù)數(shù)個鋸齒狀突起；
在所述禁止間距圖形之間插入復(fù)數(shù)個輔助散射條。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)近似修正方法，其特征在于：??根據(jù)設(shè)計規(guī)則在版圖數(shù)據(jù)庫中確定具有禁止間距的圖形或?qū)D形轉(zhuǎn)移到晶片上量測其線寬并計算聚焦深度及能量裕度等參數(shù)來確定具有禁止間距的圖形。
3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)近似修正方法，其特征在于：所述圖形為復(fù)數(shù)個用以制作互連線或柵極的線條。
4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)近似修正方法，其特征在于：所述復(fù)數(shù)個鋸齒狀突起在禁止間距圖形兩側(cè)間隔分布。
5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)近似修正方法，其特征在于：所述輔助散射條為菱形。
6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)近似修正方法，其特征在于：所述輔助散射條到與其相鄰的四個鋸齒狀突起的距離相等。
7.如權(quán)利要求1或5所述的光學(xué)近似修正方法，其特征在于：所述菱形的四個邊分別與靠近該邊的鋸齒狀突起的邊緣平行。
8.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)近似修正方法，其特征在于：所述菱形銳角的范圍是30°～60°。
9.如權(quán)利要求1或5所述的光學(xué)近似修正方法，其特征在于：所述菱形的每一邊到與該邊最近的鋸齒狀突起邊緣的距離小于或等于鋸齒狀突起的間距。
10.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)近似修正方法，其特征在于：所述鋸齒狀突起的間距小于或等于輔助散射條的間距。
11.一種光學(xué)近似修正方法，其特征在于包括：
確定具有禁止間距的圖形；
在所述具有禁止間距圖形兩側(cè)形成復(fù)數(shù)個矩形突起；
在所述禁止間距圖形之間插入復(fù)數(shù)個輔助散射條。
12.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)近似修正方法，其特征在于：根據(jù)設(shè)計規(guī)則在版圖數(shù)據(jù)庫中確定具有禁止間距的圖形或?qū)D形轉(zhuǎn)移到晶片上量測其線寬并計算聚焦深度及能量裕度等參數(shù)來確定具有禁止間距的圖形。
13.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)近似修正方法，其特征在于：所述圖形為復(fù)數(shù)個用以制作互連線或柵極的線條。
14.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)近似修正方法，其特征在于：所述矩形突起在所述禁止間距圖形兩側(cè)對稱分布。
15.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)近似修正方法，其特征在于：所述輔助散射條為矩形。
16.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)近似修正方法，其特征在于：所述輔助散射條中心到與其相鄰的四個矩形突起中心的距離相等。
17.如權(quán)利要求15所述的光學(xué)近似修正方法，其特征在于：所述矩形邊長為30～50mm。
18.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)近似修正方法，其特征在于：所述輔助散射條的間矩大于或等于所述矩形突起的間矩。
19.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)近似修正方法，其特征在于：所述所述輔助散射條到與其最近的矩形突起之間的距離小于或等于矩形突起的間矩。
20.一種經(jīng)過光學(xué)近似修正的光掩膜圖案，其特征在于包括：
具有禁止間距的圖形；和
在所述禁止間距圖形兩側(cè)的復(fù)數(shù)個鋸齒狀突起；以及
在所述禁止間距圖形之間的復(fù)數(shù)個輔助散射條。
21.如權(quán)利要求20所述的經(jīng)過光學(xué)近似修正的光掩膜圖案，其特征在于：所述禁止間距圖形為形成互連線或柵極的線條。
22.如權(quán)利要求20所述的經(jīng)過光學(xué)近似修正的光掩膜圖案，其特征在于：所述鋸齒狀突起在禁止間距圖形兩側(cè)間隔分布。
23.如權(quán)利要求20所述的經(jīng)過光學(xué)近似修正的光掩膜圖案，其特征在于：所述輔助散射條為菱形。
24.如權(quán)利要求20或23所述的經(jīng)過光學(xué)近似修正的光掩膜圖案，其特征在于：所述菱形的四個邊分別與靠近該邊的鋸齒狀突起的邊緣平行。
25.如權(quán)利要求23所述的經(jīng)過光學(xué)近似修正的光掩膜圖案，其特征在于：所述菱形銳角的范圍是30°～60°。
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