[發(fā)明專利]電子束曝光方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200610026324.8
• 申請日: 2006-04-30
• 公開（公告）號: CN101063820A
• 公開（公告）日: 2007-10-31
• 發(fā)明（設計）人: 李正強
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司
• 代理人: 逯長明

技術領域

本發(fā)明涉及一種電子束曝光方法，特別涉及一種降低曝光時間的電子束曝光方法。

背景技術

電子束曝光技術作為一種高分辨率的曝光技術，現(xiàn)已成為納米級微細加工技術和微電子技術中的主要曝光手段。

目前，電子束曝光主要應用在光刻技術掩膜制造、新一代集成電路的研制與開發(fā)以及新器件、新結構的研究與加工等方面。

如申請?zhí)枮椤?00380102314.2”中所描述的電子束曝光系統(tǒng)，現(xiàn)有的電子束曝光系統(tǒng)包括用于形成和控制電子束的電子光學柱、精密移動平臺和電子控制裝置，其中，電子光學柱主要包括電子源、電子束控制口徑、電磁透鏡和電子束偏轉掃描裝置。

圖1所示為電子束曝光系統(tǒng)工作原理圖，如圖1所示，電子源11內(nèi)陰極放電產(chǎn)生的自由電子經(jīng)過電子束控制口徑后，到達電磁透鏡12區(qū)域，電磁場的變化將電子束14聚焦于待曝光產(chǎn)品20上。電子束偏轉掃描裝置13和精密移動平臺30用來調(diào)整電子束14聚焦于待曝光產(chǎn)品20上的位置。電子控制裝置13通過調(diào)制脈沖信號41控制電子束曝光。

圖2所示為說明現(xiàn)有曝光方式的流程示意圖；如圖2所示，現(xiàn)有技術中電子束曝光的具體步驟為：

步驟21：按照產(chǎn)品設計圖形50曝光產(chǎn)品；

步驟22：對相應產(chǎn)品進行重復曝光；所述曝光次數(shù)視實際要求而定；

步驟23：得到經(jīng)過曝光的帶有設計圖形的產(chǎn)品。

但實踐證明，待曝光區(qū)域中用以輔助生產(chǎn)的圖形部分不需多次曝光已可滿足輔助生產(chǎn)作用，重復曝光耗用的時間直接降低了生產(chǎn)效率，增加了生產(chǎn)成本。

發(fā)明內(nèi)容

因此，本發(fā)明的目的在于提供一種電子束曝光方法，用以降低曝光時間、提高生產(chǎn)效率，同時降低成本。

為達到上述目的，本發(fā)明提供的一種電子束曝光方法，包括：首先將預存于電子控制裝置40內(nèi)的產(chǎn)品設計圖形50分區(qū)；繼而對不同分區(qū)內(nèi)的圖形單獨曝光。所述產(chǎn)品設計圖形50包括復數(shù)個目標圖形51和輔助圖形52；所述復數(shù)個目標圖形51和輔助圖形52之間無固定相對位置；對所述不同分區(qū)內(nèi)的圖形單獨曝光時施行不同的曝光次數(shù)；所述輔助圖形52分區(qū)的曝光次數(shù)小于目標圖形51分區(qū)曝光次數(shù)；所述各圖形分區(qū)曝光量的總和相等。

與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點：采用圖形分區(qū)曝光方式，對不同分區(qū)的圖形施加不同的曝光次數(shù)，有效地降低了曝光時間，同時提高了生產(chǎn)效率，并降低了成本。

附圖說明

圖1為電子束曝光系統(tǒng)工作原理圖；

圖2為說明現(xiàn)有曝光方式的流程示意圖；

圖3為說明本發(fā)明實施方式一的流程示意圖；

圖4為產(chǎn)品設計圖形分區(qū)示意圖；

圖5為說明本發(fā)明實施方式二的流程示意圖。

其中：

10：電子光學柱；???11：電子源；

12：電磁透鏡；?????13：電子束偏轉掃描裝置；

14：電子束；???????20：待曝光產(chǎn)品；

21：光致抗蝕劑；???30：精密移動平臺；

40：電子控制裝置；?41：調(diào)制脈沖信號；

50：產(chǎn)品設計圖形；?51：目標圖形；

52：輔助圖形。

具體實施方式

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂，下面結合附圖對本發(fā)明的具體實施方式做詳細的說明。

圖3所示為說明本發(fā)明實施方式一的流程示意圖；如圖3和圖1所示，本發(fā)明實施方式一的具體步驟為：

步驟31：利用電子控制裝置40對產(chǎn)品設計圖形50進行分區(qū)，以便于對不同分區(qū)內(nèi)的圖形施行不同的曝光次數(shù)，進而對待曝光產(chǎn)品20實行曝光次數(shù)可控的分區(qū)曝光。

圖4所示為產(chǎn)品設計圖形分區(qū)示意圖；如圖4所示，所述產(chǎn)品設計圖形50包括復數(shù)個目標圖形51和輔助圖形52。所述復數(shù)個目標圖形51和輔助圖形52之間無固定相對位置；所述復數(shù)個目標圖形51共同組成產(chǎn)品應用設計圖形；所述復數(shù)個輔助圖形52共同組成生產(chǎn)輔助圖形，用以滿足產(chǎn)品流通的需要；所述輔助圖形52包括生產(chǎn)編號、對位標記、圖形邊框及產(chǎn)品標識等。

步驟32：應用分區(qū)后的產(chǎn)品設計圖形50對待曝光產(chǎn)品20進行順次分區(qū)曝光。

首先，將待曝光產(chǎn)品20置于所述精密移動平臺30上；所述待曝光產(chǎn)品20上涂覆有光致抗蝕劑層21；所述光致抗蝕劑材料為甲基丙烯酸酯樹脂、環(huán)烯烴樹脂、酚醛樹脂或苯酚樹脂等。