[發(fā)明專利]電子束曝光方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200610026324.8
• 申請(qǐng)日: 2006-04-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101063820A
• 公開(kāi)（公告）日: 2007-10-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李正強(qiáng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中芯國(guó)際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 逯長(zhǎng)明

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種電子束曝光方法，特別涉及一種降低曝光時(shí)間的電子束曝光方法。

背景技術(shù)

電子束曝光技術(shù)作為一種高分辨率的曝光技術(shù)，現(xiàn)已成為納米級(jí)微細(xì)加工技術(shù)和微電子技術(shù)中的主要曝光手段。

目前，電子束曝光主要應(yīng)用在光刻技術(shù)掩膜制造、新一代集成電路的研制與開(kāi)發(fā)以及新器件、新結(jié)構(gòu)的研究與加工等方面。

如申請(qǐng)?zhí)枮椤?00380102314.2”中所描述的電子束曝光系統(tǒng)，現(xiàn)有的電子束曝光系統(tǒng)包括用于形成和控制電子束的電子光學(xué)柱、精密移動(dòng)平臺(tái)和電子控制裝置，其中，電子光學(xué)柱主要包括電子源、電子束控制口徑、電磁透鏡和電子束偏轉(zhuǎn)掃描裝置。

圖1所示為電子束曝光系統(tǒng)工作原理圖，如圖1所示，電子源11內(nèi)陰極放電產(chǎn)生的自由電子經(jīng)過(guò)電子束控制口徑后，到達(dá)電磁透鏡12區(qū)域，電磁場(chǎng)的變化將電子束14聚焦于待曝光產(chǎn)品20上。電子束偏轉(zhuǎn)掃描裝置13和精密移動(dòng)平臺(tái)30用來(lái)調(diào)整電子束14聚焦于待曝光產(chǎn)品20上的位置。電子控制裝置13通過(guò)調(diào)制脈沖信號(hào)41控制電子束曝光。

圖2所示為說(shuō)明現(xiàn)有曝光方式的流程示意圖；如圖2所示，現(xiàn)有技術(shù)中電子束曝光的具體步驟為：

步驟21：按照產(chǎn)品設(shè)計(jì)圖形50曝光產(chǎn)品；

步驟22：對(duì)相應(yīng)產(chǎn)品進(jìn)行重復(fù)曝光；所述曝光次數(shù)視實(shí)際要求而定；

步驟23：得到經(jīng)過(guò)曝光的帶有設(shè)計(jì)圖形的產(chǎn)品。

但實(shí)踐證明，待曝光區(qū)域中用以輔助生產(chǎn)的圖形部分不需多次曝光已可滿足輔助生產(chǎn)作用，重復(fù)曝光耗用的時(shí)間直接降低了生產(chǎn)效率，增加了生產(chǎn)成本。

發(fā)明內(nèi)容

因此，本發(fā)明的目的在于提供一種電子束曝光方法，用以降低曝光時(shí)間、提高生產(chǎn)效率，同時(shí)降低成本。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供的一種電子束曝光方法，包括：首先將預(yù)存于電子控制裝置40內(nèi)的產(chǎn)品設(shè)計(jì)圖形50分區(qū)；繼而對(duì)不同分區(qū)內(nèi)的圖形單獨(dú)曝光。所述產(chǎn)品設(shè)計(jì)圖形50包括復(fù)數(shù)個(gè)目標(biāo)圖形51和輔助圖形52；所述復(fù)數(shù)個(gè)目標(biāo)圖形51和輔助圖形52之間無(wú)固定相對(duì)位置；對(duì)所述不同分區(qū)內(nèi)的圖形單獨(dú)曝光時(shí)施行不同的曝光次數(shù)；所述輔助圖形52分區(qū)的曝光次數(shù)小于目標(biāo)圖形51分區(qū)曝光次數(shù)；所述各圖形分區(qū)曝光量的總和相等。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)：采用圖形分區(qū)曝光方式，對(duì)不同分區(qū)的圖形施加不同的曝光次數(shù)，有效地降低了曝光時(shí)間，同時(shí)提高了生產(chǎn)效率，并降低了成本。

附圖說(shuō)明

圖1為電子束曝光系統(tǒng)工作原理圖；

圖2為說(shuō)明現(xiàn)有曝光方式的流程示意圖；

圖3為說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施方式一的流程示意圖；

圖4為產(chǎn)品設(shè)計(jì)圖形分區(qū)示意圖；

圖5為說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施方式二的流程示意圖。

其中：

10：電子光學(xué)柱；???11：電子源；

12：電磁透鏡；?????13：電子束偏轉(zhuǎn)掃描裝置；

14：電子束；???????20：待曝光產(chǎn)品；

21：光致抗蝕劑；???30：精密移動(dòng)平臺(tái)；

40：電子控制裝置；?41：調(diào)制脈沖信號(hào)；

50：產(chǎn)品設(shè)計(jì)圖形；?51：目標(biāo)圖形；

52：輔助圖形。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式做詳細(xì)的說(shuō)明。

圖3所示為說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施方式一的流程示意圖；如圖3和圖1所示，本發(fā)明實(shí)施方式一的具體步驟為：

步驟31：利用電子控制裝置40對(duì)產(chǎn)品設(shè)計(jì)圖形50進(jìn)行分區(qū)，以便于對(duì)不同分區(qū)內(nèi)的圖形施行不同的曝光次數(shù)，進(jìn)而對(duì)待曝光產(chǎn)品20實(shí)行曝光次數(shù)可控的分區(qū)曝光。

圖4所示為產(chǎn)品設(shè)計(jì)圖形分區(qū)示意圖；如圖4所示，所述產(chǎn)品設(shè)計(jì)圖形50包括復(fù)數(shù)個(gè)目標(biāo)圖形51和輔助圖形52。所述復(fù)數(shù)個(gè)目標(biāo)圖形51和輔助圖形52之間無(wú)固定相對(duì)位置；所述復(fù)數(shù)個(gè)目標(biāo)圖形51共同組成產(chǎn)品應(yīng)用設(shè)計(jì)圖形；所述復(fù)數(shù)個(gè)輔助圖形52共同組成生產(chǎn)輔助圖形，用以滿足產(chǎn)品流通的需要；所述輔助圖形52包括生產(chǎn)編號(hào)、對(duì)位標(biāo)記、圖形邊框及產(chǎn)品標(biāo)識(shí)等。

步驟32：應(yīng)用分區(qū)后的產(chǎn)品設(shè)計(jì)圖形50對(duì)待曝光產(chǎn)品20進(jìn)行順次分區(qū)曝光。

首先，將待曝光產(chǎn)品20置于所述精密移動(dòng)平臺(tái)30上；所述待曝光產(chǎn)品20上涂覆有光致抗蝕劑層21；所述光致抗蝕劑材料為甲基丙烯酸酯樹脂、環(huán)烯烴樹脂、酚醛樹脂或苯酚樹脂等。