[發(fā)明專利]一種采用微轉(zhuǎn)移圖案化圖形作為掩模板的光刻圖案化方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610017027.7 | 申請日： | 2006-07-20 |
| 公開（公告）號： | CN1888978A | 公開（公告）日： | 2007-01-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 韓艷春;邢汝博;于新紅 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學(xué)院長春應(yīng)用化學(xué)研究所 |
| 主分類號： | G03F7/00 | 分類號： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 長春科宇專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 馬守忠 |
| 地址： | 130022吉*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 采用 轉(zhuǎn)移 圖案 圖形 作為 模板 光刻 方法 | ||
【說明書】：
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷?；蝾愃朴∷⒛５闹谱?，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
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