[發(fā)明專利]對向靶磁控濺射制備三氧化鎢薄膜氣敏傳感器的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610014902.6 | 申請日： | 2006-07-25 |
| 公開（公告）號： | CN1888123A | 公開（公告）日： | 2007-01-03 |
| 發(fā)明（設計）人： | 胡明;馮有才;尹英哲;張之圣;劉志剛 | 申請（專利權(quán)）人： | 天津大學 |
| 主分類號： | C23C14/00 | 分類號： | C23C14/00;C23C14/02;C23C14/08;C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 天津市鼎和專利商標代理有限公司 | 代理人： | 李鳳 |
| 地址： | 3000*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 磁控濺射 制備 氧化鎢 薄膜 傳感器 方法 | ||
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
