[發明專利]一種用于硬盤基片的拋光液及其制備方法無效
| 申請號： | 200610014604.7 | 申請日： | 2006-06-30 |
| 公開（公告）號： | CN101096575A | 公開（公告）日： | 2008-01-02 |
| 發明（設計）人： | 仲躋和;李家榮;周云昌;高如山 | 申請（專利權）人： | 天津晶嶺電子材料科技有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 國嘉律師事務所 | 代理人： | 盧楓 |
| 地址： | 300385天津市天*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 硬盤 拋光 及其 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于硬盤基片的拋光液，其特征在于：由磨料、氧化劑、PH值調節劑、螯合劑和去離子水組成，各種成分所占的重量百分比為：磨料10～50％；氧化劑0.01～10％；PH值調節劑1～6％；螯合劑0.01～1％；去離子水為余量；拋光液PH值范圍為11～12。
2.根據權利要求1所述的一種用于硬盤基片的拋光液，其特征在于：其磨料是指粒徑范圍為15nm～100nm的水溶硅溶膠或金屬氧化物SiO2、Al2O3、CeO2或TiO2的水溶膠。
3.根據權利要求1所述的一種用于硬盤基片的拋光液，其特征在于：其表面氧化劑系采用雙氧水或硝酸鹽。
4.根據權利要求1所述的一種用于硬盤基片的拋光液，其特征在于：其PH調節劑是指氫氧化鈉、氫氧化鉀、多羥多胺和胺中的一種或其組合。
5.根據權利要求1所述的一種用于砷化鎵晶片的拋光液，其特征在于：其螯合劑具有水溶性和不含金屬離子，可為羥胺、胺鹽和胺中的一種或其組合。
6.根據權利要求1-5所述的一種用于硬盤基片的拋光液的制備方法，其特征在于：首先將制備拋光液的各種組分分別進行過濾凈化處理，然后在千級凈化室的環境內，將各種組分在真空負壓的動力下，通過質量流量計輸入容器罐中并充分攪拌，混合均勻即可。
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