[發明專利]一種用于二氧化硅介質的拋光液及其制備方法

無效

• 申請號: 200610014597.0
• 申請日: 2006-06-30
• 公開（公告）號: CN101096573A
• 公開（公告）日: 2008-01-02
• 發明（設計）人: 仲躋和;李家榮;周云昌;高如山
• 申請（專利權）人: 天津晶嶺電子材料科技有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;C09G1/04
• 代理公司: 國嘉律師事務所
• 代理人: 盧楓

1、一種用于二氧化硅介質的拋光液，其特征在于它是由磨料、表面活性劑、PH值調節劑、氧化劑和去離子水混合組成，其中磨料占總重量的10～50％，表面活性劑占總重量的0.01～0.6％，PH值調節劑占總重量的1～6％，氧化劑占總重量的0.01～15％，去離子水占總重量的28.4～88.98％，拋光液PH值范圍為11～12，粒徑為15nm～100nm。

2、根據權利要求1所說的一種用于二氧化硅介質的拋光液，其特征在于所說的磨料是指粒徑范圍為15nm～100nm的水溶硅溶膠或金屬氧化物的水溶膠。

3、根據權利要求2所說的一種用于二氧化硅介質的拋光液，其特征在于所說的金屬氧化物的水溶膠是SiO₂、Al₂O₃、CeO₂或TiO₂的水溶膠。

4、根據權利要求1所說的一種用于二氧化硅介質的拋光液，其特征在于所說的表面活性劑系是非離子型表面活性劑。

5、根據權利要求4所說的一種用于二氧化硅介質的拋光液，其特征在于所說的非離子型表面活性劑是脂肪醇聚氧乙稀醚或烷基醇酰胺。

6、根據權利要求1所說的一種用于二氧化硅介質的拋光液，其特征在于所說的PH調節劑是氫氧化鈉、氫氧化鉀、多羥多胺、胺中的一種或兩種以上組合。

7、根據權利要求1所說的一種用于二氧化硅介質的拋光液，其特征在于所說的氧化劑是雙氧水、硝酸鐵、硝酸鋁、過硫酸鹽中的一種或兩種以上組合。

8、一種用于二氧化硅介質的拋光液制備方法，其特征在于首先將制備拋光液的磨料、表面活性劑、PH值調節劑、氧化劑和去離子水按配方比例取料，并分別進行過濾凈化處理，然后在千級凈化室的環境內，將各種組分在真空負壓的動力下，通過質量流量計輸入容器罐中并充分攪拌，混合均勻即可。