[發(fā)明專利]強激光參量的測量方法與測量裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200610012137.4
• 申請日: 2006-06-07
• 公開（公告）號: CN101086461A
• 公開（公告）日: 2007-12-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 于靖;鄧玉強;李健;徐濤;熊利民
• 申請（專利權(quán)）人: 中國計量科學(xué)研究院
• 主分類號: G01J1/02
• 分類號: G01J1/02;G01J1/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 湯保平

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明主要涉及一種激光參量的測量方法與測量裝置，特別是指一種強激光參量的測量方法與測量裝置。

背景技術(shù)

對于現(xiàn)有強激光參量測量裝置，探測器有面吸收的石墨材料和體吸收的灰玻璃材料。不管哪種探測器，因為直接吸收被測的激光能量，測量的范圍都有一定的限制，功率或能量過高的激光會損傷探測器而導(dǎo)致無法測量，測量范圍必須低于探測器的激光損傷閾值。此外，探測器在強光下表現(xiàn)出明顯的非線性光學(xué)特性，也影響到測量的精度。如果采用分束的方式，分束取樣器的非線性光學(xué)特性及強激光損傷閾值也會影響到測量的精度，不能準確測量強激光參量。

因此，我們提出了利用具有高損傷閾值的光學(xué)反射片通過可消除光學(xué)非線性和偏振影響的組合方式，根據(jù)各光學(xué)反射片反射激光的功率能量的測量，經(jīng)計算得到被測和通過本裝置輸出的激光參量，并同時得到光學(xué)材料的非線性光學(xué)特性測量數(shù)據(jù)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供了一種強激光參量的測量方法與測量裝置，該測量裝置及材料方法具有以下優(yōu)點：

(1)本發(fā)明在光路中按本方法插入光學(xué)特性一致的第一、二、三光學(xué)反射片和第一、二、三光學(xué)探測器，可以消除強激光條件下反射片的非線性光學(xué)特性和被測激光的偏振特性對取樣測量的影響，并獲得被測激光、透過激光功率能量以及光學(xué)材料的非線性光學(xué)特性數(shù)據(jù)。

(2)本發(fā)明的第一、二、三光學(xué)反射片須采用具有超低吸收、高損傷閾值、高透過率的光學(xué)材料，并可將高功率高能量激光測量轉(zhuǎn)變?yōu)榈凸β实湍芰考す鉁y量。

(3)本發(fā)明可實現(xiàn)激光參量的在線測量和對激光測量儀器的在線標定。

(4)本發(fā)明可以通過進一步組合，將被測激光再次降低，實現(xiàn)更高激光參量的測量。

本發(fā)明一種強激光參量的測量裝置，其特征在于，其結(jié)構(gòu)包括：

在一入射光束上依序排列有第一光學(xué)反射片、第二光學(xué)反射片、第三光學(xué)反射片，該第一、二光學(xué)反射片為正交放置，以消除反射片對激光偏振態(tài)的影響，該第三光學(xué)反射片的擺放方向與第一光學(xué)反射片相同；

一第一光學(xué)探測器，該第一光學(xué)探測器位于第一光學(xué)反射片的一側(cè)；

一第二光學(xué)探測器，該第二光學(xué)探測器位于第二光學(xué)反射片的一側(cè)；

一第三光學(xué)探測器，該第三光學(xué)探測器位于第三光學(xué)反射片的一側(cè)；

該第一、二、三光學(xué)探測器分別垂直接收該第一、二、三光學(xué)反射片反射的激光信號；

該第一、第三光學(xué)反射片具有相同的參數(shù)。

其中該第一光學(xué)反射片的法線與入射光束方向成30°-60°放置。

其中該第一、二、三光學(xué)反射片采用相同的材料及加工工藝制成，具有相同的光學(xué)特性。

本發(fā)明一種強激光參量的測量方法，其是采用權(quán)利要求1所述的測量裝置，其特征在于，包括如下步驟：

(1)沿入射光路注入強激光P；

(2)通過各光學(xué)反射片將強激光反射為弱光信號；

(3)讀取各探測器上的參數(shù)；

(4)根據(jù)各探測器讀出的參數(shù)計算出入射和出射強激光的參數(shù)。

其中計算入射強激光的參數(shù)的公式為：

P=P1·(P1+P3)P1-P5]]>

其中計算出射強激光的參數(shù)的公式為：