[發(fā)明專利]用于使光均勻化的裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200580052047.1 | 申請日: | 2005-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN101305309A | 公開(公告)日: | 2008-11-12 |
| 發(fā)明(設計)人: | H·甘澤;T·米特拉 | 申請(專利權)人: | LIMO專利管理有限及兩合公司 |
| 主分類號: | G02B27/09 | 分類號: | G02B27/09;G02B3/00 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 趙科 |
| 地址: | 德國蓋*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 均勻 裝置 | ||
1.一種用于使光均勻化的裝置,包括:
第一基片(10)和在射束傳播方向上與所述第一基片(10)間隔開的第二基片(20);
其中所述第一基片(10)在光入射面上具有第一透鏡陣列(11),所述第一透鏡陣列(11)具有多個凸透鏡(12);
其中所述第二基片(20)在面向第一基片的光出射面的光入射面上具有至少一個第二透鏡陣列(21),其中被所述第一透鏡陣列(11)折射的光可以通過所述第二透鏡陣列(21),其中所述第二透鏡陣列(21)具有分別以一間隙相互間隔開地設置的多個第一透鏡(22);
其中所述第一透鏡陣列(11)的每個凸透鏡(12)對應于所述第二透鏡陣列(21)的一個第一透鏡(22);
其特征在于,
所述第一透鏡陣列(11)的凸透鏡(12)所具有的彎曲比與其相對應的所述第二透鏡陣列(21)的第一透鏡(22)的彎曲更弱;
所述第二透鏡陣列(21)的第一透鏡(22)的曲率半徑被構造為使得所述第一透鏡(22)的焦點位于第二基片(20)內。
2.如權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述第一透鏡陣列(11)的凸透鏡(12)的頂點垂線在射束傳播方向上基本上與所述第二透鏡陣列(21)的第一透鏡(22)的頂點垂線成一直線。
3.如權利要求1或2所述的裝置,其特征在于,所述第二透鏡陣列(21)的至少一部分第一透鏡(22)被形成為凸面的。
4.如權利要求1到2中任一項所述的裝置,其特征在于,所述第二透鏡陣列(21)的至少一部分第一透鏡(22)被形成為凹面的。
5.如權利要求1到2中任一項所述的裝置,其特征在于,在所述第一透鏡陣列(11)的相鄰兩個凸透鏡(12)之間形成間隙。
6.如權利要求5所述的裝置,其特征在于,所述第一透鏡陣列(11)的凸透鏡(12)在并列設置所述第一透鏡陣列(11)的凸透鏡(12)的方向上包括比所述間隙大的寬度。
7.如權利要求5所述的裝置,其特征在于,所述第一透鏡陣列(11)的凸透鏡(12)之間的間隙被構造為使得到相鄰凸透鏡(12)的過渡是連續(xù)的。
8.如權利要求5所述的裝置,其特征在于,所述間隙至少部分地包括凹透鏡(13)。
9.如權利要求1至2中任一項所述的裝置,其特征在于,所述第二透鏡陣列(21)的第一透鏡(22)之間的間隙是第二透鏡(23),其中所述第二透鏡(23)具有與所述第一透鏡(22)不同的形狀。
10.如權利要求9所述的裝置,其特征在于,所述第二透鏡(23)所具有的曲率半徑大于所述第二透鏡陣列(21)的第一透鏡(22)的曲率半徑。
11.如權利要求9所述的裝置,其特征在于,所述第二透鏡(23)被凹面地實現。
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