[發明專利]真空蒸鍍用校準裝置

有效

• 申請號: 200580051109.7
• 申請日: 2005-08-25
• 公開（公告）號: CN101228290A
• 公開（公告）日: 2008-07-23
• 發明（設計）人: 岡田利幸;菊地昌弘
• 申請（專利權）人: 日立造船株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;H05B33/10;H01L51/50
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 何騰云

技術領域

本發明涉及一種真空蒸鍍用校準裝置。

背景技術

以前，當制造半導體基片等時，在真空容器內使半導體材料蒸發，同時，蒸鍍到基片表面，形成預定導體圖形。

在形成該導體圖形的場合，通常在基片的表面配置形成有導體圖形的掩模，對涂覆于其表面的光刻膠進行曝光，從而形成導體圖形(例如參照日本特開平5-159997號公報)。

發明內容

發明要解決的問題

可是，在真空容器內，需要相對基片將掩模配置于預定位置，設有用于進行該對位的校準裝置。

雖然該校準裝置配置于真空容器內，但在將對位精度高的校準裝置配置于真空容器內的場合，需要使用由氣體放出少的特種材料構成的部件和潤滑劑，同時，需要散熱對策等，所以，裝置本身非常昂貴。

另一方面，為了避免這樣的事態，可考慮將校準裝置配置于真空容器的外部。

在將校準裝置配置于真空容器的外部的場合，需要校準裝置的基片保持構件在真空容器內的插入部分的真空維持機構，因此，需要特殊的密封機構或加工，裝置仍然昂貴。

另外，對于基片保持構件在真空容器內的插入部分，有可能由真空力，換言之，接受大氣壓的大外力，產生應變，導致對位精度下降。

因此，為了解決上述問題，本發明的目的在于提供一種裝置自身的制造成本廉價而且可維持高精度的對位的真空蒸鍍用校準裝置。

用于解決問題的手段

為了解決上述問題，本發明的真空蒸鍍用校準裝置相對保持于上述真空容器內的基片進行蒸鍍用掩模的對位；其中：具有掩模保持架、連接用板、位置調整裝置、伸縮式筒狀遮斷構件及施力裝置；該掩模保持架在保持于上述真空容器內的基片的下方通過懸掛構件保持，該懸掛構件插通到形成于該真空容器的壁體的貫通孔；該連接用板設于上述真空容器的外方，同時，連接于上述懸掛構件；該位置調整裝置可使該連接用板移動而調整保持于掩模保持架的真空容器內的掩模相對基片的位置；該伸縮式筒狀遮斷構件外嵌于上述懸掛構件，同時，設于壁體的貫通孔的外周與上述連接用板之間，遮斷真空側與大氣側；該施力裝置產生與因上述筒狀遮斷構件的內側處于真空狀態而對連接用板產生的推壓力的方向相反的力。

另外，上述位置調整裝置可使通過懸掛構件和掩模保持架保持于連接用板的掩模與平行于基片表面移動地構成，另外，還具有使連接用板朝與基片表面正交的軸心方向移動的功能。

另外，可調整上述施力裝置的施力地構成。

另外，上述基片由保持板體保持，同時，具有可自由保持和釋放該保持板體的保持裝置。

發明的效果

按照上述構成，當在預定真空下相對基片進行掩模的對位時，由于在真空容器的外部配置基片的位置調整裝置，所以，不需要使用考慮了真空下的材料等，同時，也不需要特殊的密封機構等，因此，裝置自身的制造成本變得低廉。

另外，由于具有可與在真空下由大氣壓產生的推壓力對抗的力的施力裝置，所以，可防止在位置調整裝置作用多余的外力，因此，可高精度地維持掩模相對基片的對位。

附圖說明

圖1為示出設置了本發明實施形式1的校準裝置的真空蒸鍍裝置的截面圖。

圖2為圖1的A-A的截面圖。

圖3為示出該校準裝置的構成的截面圖。

圖4為示出該校準裝置的要部的透視圖。

圖5為該校準裝置的平面內移動裝置的平面圖，(a)示出平面內移動裝置的構成，(b)～(f)說明其動作。

圖6為示出該真空蒸鍍裝置的基片保持架和掩模保持架的透視圖。

圖7為說明由該校準裝置進行的基片與掩模的對位動作的平面圖。

圖8為示出該校準裝置的焦點調整件的要部截面圖。

圖9為示出該校準裝置的焦點調整件的變型例的要部截面圖。

圖10為設置了本發明的實施形式2的校準裝置的真空蒸鍍裝置的截面圖。

圖11為該真空蒸鍍裝置的基片的保持板體的平面圖。

圖12為該保持板體的正面圖。

圖13為該保持板體的側面圖。

具體實施方式

[實施形式1]

下面說明本發明實施形式1的真空蒸鍍用校準裝置。

該真空蒸鍍用校準裝置例如設于用于制造有機EL顯示器的顯示部的真空蒸鍍裝置，當使用掩模按預定的圖形將有機材料(蒸鍍材料)蒸鍍到玻璃基片的表面而獲得導體圖形時，用于保持掩模并相對玻璃基片進行該掩模的對位(校準)。