[發明專利]熒光X射線分析裝置和其所采用的程序

有效

• 申請號: 200580049351.0
• 申請日: 2005-12-08
• 公開（公告）號: CN101151524A
• 公開（公告）日: 2008-03-26
• 發明（設計）人: 河原直樹;原真也
• 申請（專利權）人: 理學電機工業株式會社
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223
• 代理公司: 北京三幸商標專利事務所
• 代理人: 劉激揚

技術領域

本發明是涉及通過FP法對試樣的組分、面積密度進行分析的熒光X射線分析裝置和其所采用的程序。

背景技術

在過去，包括采用基本參數法(在下面稱為FP法)分析試樣的組分、面積密度的熒光X射線分析裝置。在FP法中，根據假定的組分，即元素的濃度，計算從試樣中的各元素產生的二次X射線的理論強度，按照該理論強度與通過檢測機構測定的測定強度換算為理論強度值的換算測定強度一致的方式，逐次近似地修正計算上述假定的元素的濃度，計算試樣的元素的濃度，即組分。在這里，每當計算上述理論強度時，采用對無限大的試樣均勻地照射平行的一次X射線，觀測由該一部分產生的二次X射線的計算模型。

但是，由于實際上，用于試樣的尺寸與一次X射線的照射區域均是有限的，故一次X射線的入射角也伴隨入射位置而不同，故從試樣實際上產生的二次X射線的強度不與通過上述計算模型所產生的二次X射線的強度完全一致。將其稱為幾何效果，但是，如果不按照充分符合現實而添加幾何效果的方式計算理論強度，則作為分析結果的試樣的組分也不是十分正確的。

于是，Omega?Data?system公司發表了軟件“UniQuant”，以便按照包括添加幾何效果的方式計算理論強度。在該軟件中，預先系統性地改變試樣的厚度，求出深度方向的靈敏度曲線，采用該靈敏度曲線，計算理論強度。

但是，由于深度方向的靈敏度曲線伴隨分析對象的二次X射線和試樣的組分而變化，故為了將該已有技術適合地應用于多種試樣，必須預先求出多條靈敏度曲線，這是不現實的。

發明內容

本發明是針對上述問題而解決的，本發明的目的在于針對通過FP法分析試樣的組分、面積密度的熒光X射線分析裝置和其所采用的程序，提供針對各種試樣，可按照簡便并且將幾何效果充分符合現實而添加的方式計算理論強度，足夠正確地進行定量分析的方案。

為了實現上述目的，本發明的第1方案涉及一種熒光X射線分析裝置，其包括對試樣照射一次X射線的X射線源；檢測機構，該檢測機構測定從該試樣產生的二次X射線的強度；計算機構，該計算機構根據假定的組分，計算從試樣中的各元素產生的二次X射線的理論強度，按照該理論強度與通過上述檢測機構測定的測定強度換算為理論強度值的換算測定強度一致的方式，逐次近似地修正計算上述假定的組分，計算試樣的組分，上述計算機構每當計算上述理論強度時，將試樣的大小與照射到試樣表面的各位置的一次X射線的強度和入射角作為參數，針對各光路模擬計算二次X射線的理論強度。

按照上述第1方案的裝置，由于每當計算理論強度時，將試樣的大小與照射到試樣表面的各位置的一次X射線的強度和入射角作為參數，針對各光路模擬計算二次X射線的理論強度，故不必預先求出多條靈敏度曲線，針對各種試樣，可按照簡便并且將幾何效果充分符合現實而添加的方式計算理論強度，足夠正確地進行定量分析。另外，計算試樣的組分所需要的整體的計算時間大于過去，但是，其在充分實用的范圍內。

在第1方案的裝置中，最好，上述計算機構針對多個上述假定的組分，同時計算上述理論強度。按照該優選的方案，全部的計算時間縮短。

另外，在第1方案的裝置中，最好，上述計算機構采用預先求出的試樣表面的一次X射線的入射角分布或散射角分布。由于對于試樣表面的一次X射線的入射角分布、散射角分布，通常只要不改變X射線源，其便不改變，故在該優選的方案中，將其預先求出，用于理論強度的計算。按照該方式，由于理論強度的計算時間縮短，故全體的計算時間也縮短。另外，由于試樣表面的一次X射線的入射角分布、散射角分布不針對每個試樣而改變，故不必像上述過去的技術的靈敏度曲線那樣，事先求出多條。

此外，在第1方案的裝置中，最好，其包括設置刻度的試樣容器，該刻度用于測定試樣表面的高度。由于照射到上述參數的試樣表面的各位置的一次X射線的強度和入射角伴隨X射線源的試樣表面的高度而變化，故試樣表面的高度必須已知。在該優選的方案中，由于在試樣容器中設置測定試樣表面高度的刻度，故容易測定、調整試樣表面的高度。

本發明的第2方案涉及一種程序，該程序為將上述第1方案的裝置所具有的計算機作為上述計算機構而發揮作用的程序。同樣通過本發明的第2方案的程序，也獲得與上述第1方案的裝置相同的作用效果。

附圖說明

通過參考了附圖的以下的最佳實施例的說明，應該能更加清楚地理解本發明。但是，實施例和附圖只是單純的圖示和說明，并不應用于限定本發明的范圍。本發明的范圍通過前面的權利要求書確定。在附圖中，多個附圖中的同一部件編號表示同一部分。