[發(fā)明專利]改進(jìn)造紙中的留著和濾水無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200580048838.7 | 申請日: | 2005-12-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101133119A | 公開(公告)日: | 2008-02-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | J·C·哈林頓;R·A·格爾曼;F·J·蘇特曼 | 申請(專利權(quán))人: | 赫爾克里士公司 |
| 主分類號(hào): | C08L53/00 | 分類號(hào): | C08L53/00;D21H21/10 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 程大軍 |
| 地址: | 美國特*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 改進(jìn) 造紙 中的 | ||
1.一種改進(jìn)造紙工藝中的留著和濾水的方法,其中所述改進(jìn)包括將締合聚合物和至少一種合成聚電解質(zhì)加入造紙漿料中,其中所述締合聚合物包括下式:
[-B-co-F-]????(I)
其中B為包括一種或多種烯鍵式不飽和非離子單體的非離子型聚合物鏈段;F為包括至少一種烯鍵式不飽和陰離子或烯鍵式不飽和陽離子單體的聚合物鏈段;B∶F的摩爾百分比為99∶1-1∶99;其中所述締合聚合物具有由有效量的選自二嵌段或三嵌段聚合表面活性劑的至少乳化表面活性劑提供的締合性能,其中所述至少一種二嵌段或三嵌段的表面活性劑對單體的量至少為約3∶100,其中所述至少一種合成聚電解質(zhì)選自陽離子單體含量為20摩爾%或更多的陽離子型共聚物、陰離子單體含量為20摩爾%或更少的陰離子型共聚物、聚胺、聚二烯丙基二甲基氯化銨、聚酰胺基胺-環(huán)氧氯丙烷樹脂或改性聚乙烯亞胺。
2.權(quán)利要求1的方法,其中至少一種合成聚電解質(zhì)選自陽離子單體含量為20摩爾%或更多的陽離子型共聚物、陰離子單體含量為20摩爾%或更少的陰離子型共聚物,其中所述陽離子型或陰離子型共聚物包括至少一種選自丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N,N-二烷基丙烯酰胺、N-烷基丙烯酰胺、N-乙烯基甲基乙酰胺、N-乙烯基甲酰胺、N-乙烯基甲基甲酰胺和N-乙烯基吡咯烷酮的非離子單體。
3.權(quán)利要求2的方法,其中所述至少一種合成聚電解質(zhì)為陰離子單體含量為20摩爾%或更少的陰離子型共聚物,其中所述陰離子型共聚物包括至少一種選自如下的游離酸或鹽的陰離子單體:丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸、衣康酸、丙烯酰胺基乙醇酸、2-丙烯酰胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸、3-烯丙氧基-2-羥基-1-丙烷磺酸、苯乙烯磺酸、乙烯基磺酸、乙烯基膦酸、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙烷膦酸。
4.權(quán)利要求3的方法,其中所述至少一種合成聚電解質(zhì)為陰離子單體含量為20摩爾%或更少的陰離子型共聚物,其中所述陰離子型共聚物包括至少一種選自如下的游離酸或鹽的陰離子單體:丙烯酸、甲基丙烯酸和苯乙烯磺酸。
5.權(quán)利要求2的方法,其中所述至少一種合成聚電解質(zhì)為陽離子單體含量為20摩爾%或更多的陽離子型共聚物,其中所述陽離子型共聚物包括至少一種選自如下的游離堿或鹽的陽離子單體:二烯丙基二甲基鹵化銨、二烷基氨基烷基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸二乙氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲氨基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基二甲氨基丙酯、(甲基)丙烯酸氨基乙酯、N,N-二甲氨基乙基丙烯酰胺以及丙烯酰氧基乙基三甲基氯化銨。
6.權(quán)利要求5的方法,其中所述至少一種合成聚電解質(zhì)為陽離子單體含量為20摩爾%或更多的陽離子型共聚物,其中所述陽離子型共聚物包括至少一種選自如下的游離堿或鹽的陽離子單體:N,N-二甲氨基乙基丙烯酰胺和丙烯酰氧基乙基三甲基氯化銨。
7.權(quán)利要求1的方法,其中所述至少一種合成聚電解質(zhì)選自聚酰胺基胺-環(huán)氧鹵丙烷樹脂、聚胺、聚亞胺、以及上述任何的衍生物。
8.權(quán)利要求7的方法,其中所述至少一種合成聚電解質(zhì)包括聚酰胺基胺-環(huán)氧鹵丙烷樹脂或其衍生物。
9.權(quán)利要求1的方法,其還包括含硅材料。
10.權(quán)利要求9的方法,其中所述含硅材料選自二氧化硅基顆粒、二氧化硅微凝膠、無定形二氧化硅、膠體二氧化硅、陰離子膠體二氧化硅、二氧化硅溶膠、二氧化硅凝膠、聚硅酸鹽、聚硅酸以及它們的組合。
11.權(quán)利要求1的方法,其中所述至少一種合成聚電解質(zhì)包括聚胺或其衍生物。
12.權(quán)利要求1的方法,其中所述締合聚合物為陰離子型。
13.權(quán)利要求1的方法,其中所述締合聚合物包括丙烯酰胺和丙烯酸的游離酸或鹽。
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