[發(fā)明專利]表面活性提高的聚酰亞胺薄膜無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200580048494.X | 申請日: | 2005-12-22 |
| 公開(公告)號: | CN101124083A | 公開(公告)日: | 2008-02-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 前田修一;小濱幸德;內(nèi)貴昌弘;平野徹治;木內(nèi)政行 | 申請(專利權(quán))人: | 宇部興產(chǎn)株式會社 |
| 主分類號: | B32B9/00 | 分類號: | B32B9/00;B32B5/16;B32B15/04;B32B27/34;C08J7/06 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吳娟;李炳愛 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 表面活性 提高 聚酰亞胺 薄膜 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及薄膜表面的活性得到提高的聚酰亞胺薄膜。本發(fā)明特別涉及適合在覆銅板(CCL)的制造中使用的、顯示高表面活性的聚酰亞胺薄膜。
背景技術(shù)
聚酰亞胺薄膜、特別是芳族聚酰亞胺薄膜的耐熱性、力學(xué)特性、電學(xué)特性、耐環(huán)境特性、阻燃性等優(yōu)異,并且具有柔軟性,因此以覆銅板為代表,通常作為各種電子部件的構(gòu)成材料使用。其中,含有以3,3’,4,4’-聯(lián)苯四甲酸單元或3,3’,4,4’-聯(lián)苯四甲酸單元與均苯四甲酸單元的組合作為四甲酸單元、以4,4’-二氨基苯或4,4’-二氨基苯與4,4’-二氨基二苯醚的組合作為二胺單元的聚酰亞胺薄膜作為電子部件的構(gòu)成材料,具有特別優(yōu)異的特性,因此其作為電子部件的構(gòu)成材料的應(yīng)用得到很大發(fā)展。
覆銅板通過在聚酰亞胺薄膜的一側(cè)或兩側(cè)的表面上層合金屬銅的膜制備。金屬銅膜可以通過銅箔的層合等進(jìn)行,但由于近年來對電子部件高性能化和小型化的要求,金屬銅層不斷薄膜化,通過電鍍法等、以薄膜的形式直接在聚酰亞胺薄膜表面上形成金屬銅層的方法被廣泛采用。
另一方面,聚酰亞胺薄膜缺乏表面活性,即使在聚酰亞胺薄膜的表面層合銅箔或者形成鍍銅層,所形成的銅層與聚酰亞胺薄膜的結(jié)合強(qiáng)度不夠。特別是上述含有以3,3’,4,4’-聯(lián)苯四甲酸單元或者3,3’,4,4’-聯(lián)苯四甲酸單元與均苯四甲酸單元的組合作為四甲酸單元、以4,4’-二氨基苯或4,4’-二氨基苯與4,4’-二氨基二苯醚的組合作為二胺單元的聚酰亞胺薄膜雖然作為電子材料使用的特性優(yōu)異,但在其表面上層合銅箔或形成金屬鍍層時,無法實現(xiàn)具有足夠結(jié)合強(qiáng)度的結(jié)合。
以往,在聚酰亞胺薄膜表面上層合銅箔時,采用使用環(huán)氧樹脂粘合劑或聚酰亞胺系粘合劑進(jìn)行粘合的方法;或者采用在聚酰亞胺薄膜的表面上層合熱塑性聚酰亞胺層,對聚酰亞胺薄膜與銅箔進(jìn)行熱壓合的方法等。
在聚酰亞胺薄膜的表面形成金屬鍍層時,采用在薄膜表面預(yù)先附著或埋入金屬氧化物微粒的方法。
專利文獻(xiàn)1中公開了一種芳族聚酰亞胺薄膜,該芳族聚酰亞胺薄膜的表面部分地包埋二氧化硅、氧化鈦、碳酸鈣、氧化鎂、氧化鋁等無機(jī)顆粒(平均粒徑:0.01-100μm)。該文獻(xiàn)中記載了上述構(gòu)成的芳族聚酰亞胺薄膜如下獲得:在芳族聚酰亞胺的前體-芳族聚酰胺酸的含有有機(jī)溶劑的薄膜表面涂布無機(jī)顆粒分散液,然后進(jìn)行干燥和高溫加熱。
專利文獻(xiàn)2中記載了一種撓曲性的復(fù)合薄膜,該薄膜在以聚酰亞胺薄膜為代表的高分子薄膜表面設(shè)置了含有金屬氧化物的絕緣層。該文獻(xiàn)2中記載:該撓曲性復(fù)合薄膜例如可通過在薄膜表面涂布改性硅酸烷基酯,加熱獲得。
專利文獻(xiàn)3中記載了一種具有無機(jī)膜的低透濕性聚酰亞胺薄膜,該無機(jī)膜是在聚酰亞胺薄膜的表面涂布含有硅醇鹽的金屬醇鹽的溶膠溶液,接著將該溶膠凝膠化而生成的。
專利文獻(xiàn)4中公開了一種聚酰亞胺·二氧化硅混合薄膜,該薄膜是將含有烷氧基的硅烷改性聚酰亞胺和含有極性溶劑的硅烷改性聚酰亞胺樹脂組合物在載體薄膜上流延,使其干燥,然后剝離獲得的,其中所述含有烷氧基的硅烷改性聚酰亞胺是使聚酰胺酸和/或聚酰亞胺、與含有環(huán)氧基的烷氧基硅烷部分縮合物反應(yīng)得到的。在該聚酰亞胺·二氧化硅混合薄膜的表面鍍上金屬,即可以得到帶金屬層的聚酰亞胺薄膜。
專利文獻(xiàn)1:日本特開平5-25295號公報
專利文獻(xiàn)2:日本特開平1-232034號公報
專利文獻(xiàn)3:日本特開平4-342741號公報
專利文獻(xiàn)4:日本特開2003-136632號公報
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供表面活性得到提高、表面的粘合性得到改善的聚酰亞胺薄膜。本發(fā)明的目的還在于提供聚酰亞胺薄膜與金屬膜以在實際應(yīng)用中不會出現(xiàn)問題的高結(jié)合強(qiáng)度結(jié)合的帶金屬膜的聚酰亞胺薄膜。本發(fā)明的目的又在于提供可以良好的產(chǎn)率制備表面活性得到提高的聚酰亞胺薄膜的方法。
本發(fā)明涉及一種聚酰亞胺薄膜,該薄膜的至少一個表面上經(jīng)由金屬氧化物和聚酰亞胺混合存在的層層合有被覆顆粒層,該被覆顆粒層由平均粒徑為1000nm以下的無機(jī)物顆粒被金屬氧化物的被覆層被覆而成的被覆顆粒構(gòu)成,所述金屬氧化物為同一種物質(zhì)。
本發(fā)明還涉及在上述本發(fā)明的聚酰亞胺薄膜的被覆顆粒層上層合有金屬層的帶金屬膜的聚酰亞胺薄膜。
本發(fā)明的在聚酰亞胺薄膜表面上形成的、金屬氧化物與聚酰亞胺混合存在的層(金屬氧化物·聚酰亞胺混合層)可以是連續(xù)層,也可以是具有部分不連續(xù)區(qū)域的不連續(xù)層。該金屬氧化物聚酰亞胺混合層中,金屬氧化物通常以微粒或與聚酰亞胺的復(fù)合物(加合物)等的狀態(tài)存在。
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